科研设备 科研仪器设备  科研炉是半导体加工中的典型热处理设备，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件、光导纤维等行业中进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。
 

科研设备 科研仪器设备  科研炉主要技术参数： 
◆工艺管数量：1-4管
◆工艺管口径：Φ90-360mm（3～12英寸）
◆工作温度范围：400～1280℃
◆恒温区长度及精度±0.5℃/1080mm
◆工艺均匀性:≤±5％（30~60欧姆）

◆结构型式：卧式热壁型
◆气体流量设定精度:±1％F.S
◆气路系统气密性： 1×10-7pa.m3/s
◆超净工作台：净化等级：100级（万级厂房）噪音：≤62dB（A）震动：≤3μm
◆记录工艺曲线数量及工艺步数不受限制
◆控制方式： 工业微机控制

晨立公司拥有十几年的专业研发制造经验。自成立以来，坚持产品设计和服务质量共同发展，积极进取，精益求精，不断提高产品核心竞争力。公司产品拥有自主产权。有5名中、高级职称的工程师组成业的研发团队，从事热工行业近20年之久，有丰富的生产制造经验。

公司本着和谐、共赢，以“质量求发展、以诚信为根本、以客户为中心、以用户满意”为最终目标的企业方针，为客户提供优质的产品，优良的服务。