MARIO NETWORK紫外线臭氧清洗机OPL2001

MARIO NETWORK紫外线臭氧清洗机OPL2001

OPL2001 OPL1102 OPL2003

高输出&长寿命灯搭载，0.1秒到999小时的定时关闭，搭载时间表，内置可简单调整距离的专用实验室千斤顶。附带互锁装置(可选)也有准备。

UV表面处理UV清洗/UV表面改性

UV臭氧清洗，UV臭氧改性，表面处理

254nm照度:20mw /cm2以上。也有30mw / m2的。(定制)

用于实验、研究开发，是日本具实际成果的台式设备。大学院，各种研究设施，亚洲欧洲实验/开发/生产用等广泛的用途被采用。表面处理(光表面改性，光清洗)

UV表面处理的机制包括:

UV所具有的能量：185nm波长UV引起的氧的臭氧化，254nm波长UV的臭氧活性氧分子化

为了被活用，能同时得到[UV的能量]和[活性氧分子],低压水银灯(185nm, 254nm同时发光灯)适合作为光源。作为秘诀使用石英玻璃的灯，可以得到优良的臭氧发生率。

OPL16N内置的110w灯产生的臭氧是15w的GL-15灯的156倍以上。在化学反应中，如果只是把氢和氧混合在一起，反应就无法进行，要使其产生反应，就要通过“燃烧”给予能量，使其产生反应。

UV清洗臭氧的氧分子和物质表面的有机物的化学反应中，UV作为其能量发挥作用。

该反应以“高浓度臭氧”、“UV能量强”促进，具体来说“强有力的洗净力带来的UV洗净效果”和“缩短时间的高效实验研究”等成果。本装置受欢迎的理由之一是能够同时获得强UV强度和高浓度臭氧。配备了大功率石英灯(185nm、254nm同时发光灯)。