等离子体增强原子层沉积系统采用更大的腔室和等离子ALD模块,获得更好的原子层沉积效果。
等离子体增强原子层沉积系统特点
腔室圆柱形和工程设计的流型均匀性。
适用于多种不同的基板和沉积材料。
出于安全目的，在分离的区域进行前体、泵送、捕集和控制。
用户友好且易于访问所有组件
等离子体增强原子层沉积系统规格参数
不锈钢腔室
具有4-8条不同前体（冷和热）管线的前体进料系统
配备快速气动阀的前体进料系统。
多段温度控制：前体、加热夹套，范围0-200ºC，分辨率1ºC腔室，范围0-300ºC，分辨率1ºC–腔室的管道入口和出口，范围0-150ºC，分辨率1ºC。
基本压力为10-1/10-3毫巴。
工具尺寸，1000x600x1000mm。
带触摸屏的控制系统：
系统状态信息：气体流量、温度、压力和阀门。
过程监控：压力和温度。偏差警报和安全锁。
配方处理和实时监控。
自动盖和人体工程学设计。视觉和声音警报。