等离子体增强化学气相沉积系统
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PECVD:是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上可达8路MFC和多样化的气体选择; 均匀性:≤±3%; 预抽真空室和自动晶片装卸门; 全自动控制;
应用领域: 等离子诱导表面改性; 等离子清洗; 等离子聚合; SiO2, Si3N4, DLC及其它薄膜; 碳纳米管(CNT)的选择性生长。
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