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XBS 分子束外延沉积速率监测/控制系统(MBE Deposition Rate Monitoring/Control System),适于精确的MBE分析,其他气体分析和科学实验使用。
XBS 分子束外延沉积速率监测/控制系统的高灵敏度和数据的快速采集,能够提供生长速度低至0.01 Å/s的质谱信号。
·交叉离子源,束接收角同轴的横断面呈±35°
·离子源控制,用于软离子化和表观电势质谱
·2mm束接受孔,以利特殊使用者操作
·一级过滤处增加射频,抗污染物能力增强
·内置UHV兼容的水冷却罩
·通过RS232、USB或Ethernet连接计算机,MASsoft软件控制
·质量数范围: 1~300 amu(标准配置)
500amu(选配)
·扫描速度: 100amu/s
·最小扫描步阶: 0.01amu
·检测浓度: 5ppb~99%
·稳定性: 24h以上,峰高变化小于±0.5%
·监测极限: 30 ions/s
·监测生长速率: 1Å / min,或更低
XBS Monitor for the Molecular Beam Epitaxy Process (390 KB)
Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)