风冷台灯取暖器MILA-700AR理工ADVANCE

风冷台灯取暖器MILA-700AR理工ADVANCE

风冷台灯取暖器MILA-700AR，简易红外灯加热器SSA系列，可变气氛灯加热装置QHC系列，VHC系列，点聚焦红外金像炉MIRO系列，红外灯消光管CAS-MR59AQ，超高温灯管退火设备HT-RTA59HD，生产用热处理炉(线设备)

产品介绍

风冷台灯取暖器MILA-700AR

不使用冷却水的台灯加热设备。
冷却使用空气冷却风扇，因此如果您有壁装电源插座（AC100V），您可以立即加热。

用法

Si晶圆、化合物晶圆的高速加热

光CVD基板加热等电子材料的高速加热

玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理。

热循环试验

金属材料退火

涂膜耐热性评价

有机材料和树脂的加热和干燥

特征

无需冷却水，采用带风冷风扇的风冷系统。

可与墙上插座一起使用 (AC100V 15A)

台式加热炉、加热室、温控器一体化

红外金像炉清洁快热快冷

在计算机上轻松输入温度配方

加热过程中的温度数据可在电脑屏幕上显示

标配数字流量计，可选择N2气、Ar气、干燥空气。

简易红外灯加热器SSA系列

红外金像炉和石英腔室的简单设备。
一种低成本加热系统，由红外金像炉和包含样品架的石英室组成。

用法

化合物半导体的合金化

Si、化合物半导体RTA

陶瓷基板层压材料烧成炉

玻璃和陶瓷基板退火炉

特征

可选择气流式或真空式石英腔体（标准为气流式）

可选地，可以组合气流类型和真空类型

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

此外，还可以在个人电脑上显示加热过程中的温度数据。

可变气氛灯加热装置 QHC系列/VHC系列

可以进行太阳能电池/化合物半导体的工艺开发以及各种应用和设置。
QHC/VHC系列是结合了红外线金像炉和温度控制器的高速加热/冷却系统，并紧凑地配备了石英热处理室。
可根据客户需求定制。

用法

太阳能电池基板的热处理

氢气氛下热处理

用于各种材料基础研究的大气退火和热处理模拟器

气淬热处理

热循环/热冲击测试

半导体材料的烧成、工艺退火条件的检查

特征

从高速加热到低速加热的多种条件设置

多步循环加热

气冷机构高速气淬

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

此外，还可以在个人电脑上显示加热过程中的温度数据。

点聚焦红外金像炉MIRO系列

聚光聚光超高温热处理。
它是一种紧凑型点聚光红外金像炉，具有球形反射面，通过与单室或双室组合实现高反射效率。通过聚焦可以将温度升高到 1800°C。

用法

超高温真空热处理

晶体生长测试（区熔）

小样品超高温加热试验

局部加热热冲击试验

热循环试验

用于热分析

用于产生的气体热解器

微重力下的实验反应堆

特征

超小型、低成本的超高温加热炉

通过与单室或双室组合，可以在真空或惰性气体等气氛下进行加热。

可以在加热过程中观察样品

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

加热过程中的温度数据可以显示在个人电脑上。

红外灯消光管CAS-MR59AQ

材料加热后，可将样品滴下并在水淬惰性气体气氛中加热至 1800 °C

用法

钢板材料新材料研发

金属凝固过程中的成分评估

陶瓷的热冲击试验

特征

可在 10 秒内升温至 1800°C

采用红外线灯加热，产生的气体和粉尘少，清洁加热

材料加热后允许水淬

超高温灯管退火设备HT-RTA59HD

在10秒内将一小块样品加热到1800°C。一种
桌面式超高温灯管退火装置，可以将SiC等昂贵样品和小块其他高熔点材料的温度提高到超高温度1800°C 的温度范围，通过点加热实现高反射效率。

用法

SiC（功率器件）氧化膜形成-活化

高熔点材料的热处理

烧结、烧成炉

局部加热冲击试验炉

长晶试验炉（区熔）

特征

15 平方毫米的样品可以在 10 秒内加热到 1800°C。

通过点加热实现高反射效率

桌面小巧机身

采用红外线灯加热，产生的气体和粉尘少，清洁加热

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

此外，还可以在个人电脑上显示加热过程中的温度数据。

生产用热处理炉（线设备）

根据热处理的目的形成加热系统。
在该设备中，加热炉和加热系统根据材料的形状和过程中热处理的目的而组成。
我们通过地利用高速加热、高速冷却和清洁加热，提供适用于无公害、节能和高功能的加热炉。

用法

建材用铝挤压模具高速预热

金属丝的连续热处理

金属带材轧制前后的连续热处理

异种金属材料的扩散接合加热

涂膜干燥/烘烤加热

玻璃基板材料的高真空加热

氯乙烯管软化成型

漆包线干燥退火

碳纳米管生产炉