红外金像炉RHL-E系列ADVANCE理工红外灯加热器

红外金像炉RHL-E系列ADVANCE理工红外灯加热器

红外金像炉RHL-E系列，RHL-VHT系列，RHL-P系列，红外金像炉Ps、Pss系列，可编程温度控制器TPC- 5000系列，红外灯退火设备RTA系列，红外灯加热器RTP-6，台灯加热装置MILA-5050，台灯加热装置MILA-5000系列

产品介绍

红外金像炉RHL-E/VHT/P系列

我们用红外灯加热来满足客户的需求。
应用于各种尺寸加热物体的研发、生产设备等各个领域。

用法

太阳能电池、CIGS、CZTS 退火

SiC功率器件的退火

金属材料的淬火和退火

陶瓷材料的热冲击试验

钎焊热处理

催化剂加热炉（气体分析）

特征

E型：具有椭圆形反射面，通过将光线聚光至焦点（线聚光），可实现高温高速加热。

VHT型：椭圆反射面的超高温型。可加热至 1800°C

P型：具有抛物面反射面，平行光可大面积均匀加热。

红外金像炉Ps、Pss系列

它可用于广泛的领域，包括碳纳米管生成设备和生产设备。
平板辐射红外加热炉可用于φ2in至φ300mm晶圆退火系统及生产烧成炉。

用法

大型玻璃基板（太阳能电池、FPD等）的加热

半导体晶圆的高温高速加热

薄钢板热处理

特征

Ps型的反射面宽度为40mm，Pss型的反射面宽度为20mm，可实现高密度的灯配置。

Ps型和Pss型都可以通过增加反射面的数量来加热大面积。

可编程温度控制器TPC-5000系列

可以准确处理高速加热的温度控制器。
这是一款可编程温度控制器，不仅可以用于红外线金像炉，在高速加热时需要快速响应，还可以用于低速加热炉。
我们以紧凑的包装提供高功能和高性能，并以低价提供范围广泛的配件。

用法

需要高速加热的加热炉，如红外线金像炉等。

特征

高速采样 (50 ms) 可轻松控制 100°C/s 或更高的加热速率。

兼容的热电偶包括 JIS、K、S、B、R、E、J、T 和 W，以及铂电阻、电流输入和电压输入控制。

可设定256步程序

8个输入口，5个输出口，接口继电器），可支持阀门开闭等多种功能（仅限扩展型）

配备30A、60A、120A控制电路，支持多种加热炉

高度 157mm x 宽度 250mm x 长度 380mm 的紧凑尺寸

程序输入允许使用随附的软件（通过 USB 端口连接）从您的 PC 进行温度程序设置和外部信号输入

红外灯退火设备RTA系列

10秒到目标温度！
我们的红外灯加热具有高能量密度、近红外线、高热响应性、温度可控性和真空清洁加热。可处理 2 英寸（50 毫米）至 12 英寸（300 毫米）晶圆的产品阵容。我们将根据客户要求的热处理配方（加热/冷却）和气氛（真空和气体）以及 RTA 系列来满足客户的需求。

用法

离子注入后活化退火

氧化膜形成退火

欧姆电极的合金化

PZT、SBT等铁电薄膜的晶化退火

硅片的donor killer处理

硅化物形成、硅化物形成

发光器件和半导体激光器基板的热处理

超浅结形成

铁电电容器的沉积

栅极氧化膜形成

特征

加热速度可达 200°C/s

兼容 C to C 机器人运输系统

可连接到半导体制造设备

可浸泡多张纸的灯的区域输出控制

红外灯加热器RTP-6

可以低成本进行80℃/s的高速退火。
本设备是一种红外线灯设备，以抛物面反射红外线灯对4-6英寸尺寸的晶圆进行均匀加热。可以进行高速热处理，可以很容易地用作热处理工艺研究和开发的装置。个别半导体工艺的硅化物形成和氧化膜形成，以及化合物半导体的工艺退火是可能的。

特征

可进行高速热处理

采用水冷式金属室型冷壁结构，可实现高速冷却。

真空置换后的气体流动也是可能的

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

加热过程中的温度数据可以显示在个人电脑上。

可以连接石英防粘板以防止腔室内部受到污染（可选）

9 区输出控制可实现出色的温度分布和再现性

台灯加热装置MILA-5050

本装置为台灯加热装置，可对50平方毫米的试件进行热处理。
自从 MILA-5000 系列桌面灯加热器作为 20 平方毫米样品的加热设备发布以来，许多客户一直在定期使用它。因此，我们可以在保持 50 平方毫米的热处理的同时进行热处理集加热炉、腔体、温控器于一体的紧凑型机身。

用法

光CVD基板加热等电子材料的高速加热

玻璃基板、陶瓷、复合材料等的热处理。

热循环试验

金属材料退火

涂膜耐热性评价

有机材料和树脂的加热和干燥

特征

热处理可以达到 50 平方毫米的样品尺寸。

温度1200℃

一种桌面加热装置，集红外高速加热和冷却金像炉、加热室、温控仪于一体。

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

加热过程中的温度数据可以显示在个人电脑上。

台灯加热装置MILA-5000系列

MILA-5000系列可以进行高速加热/冷却和清洁加热，这是红外金像炉的特点。这是一种红外灯加热设备。可以通过USB连接在个人电脑上进行加热操作，并且可以轻松管理数据。

用法

铁电薄膜的晶体退火

离子注入后的扩散退火、氧化膜形成退火

硅、化合物晶圆烧结、合金化处理

玻璃基板均热退火仪

热循环、热冲击、热疲劳试验

程序升温脱热试验用加热炉

催化效果测试

特征

可以从真空、气体、气流和大气中选择任何气氛。

精确的温度控制

台式和紧凑型设计

温度程序设置和外部信号输入可以从您的个人计算机轻松执行。

加热过程中的温度数据可以显示在个人电脑上。