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参考价:

360000  -  ¥1920000
考夫曼离子源 RFICP220 溅射沉积钛金属薄膜

具体成交价以合同协议为准

2023-02-14上海市
型号
参数
品牌:其他品牌 产地:进口 加工定制:否
伯东企业(上海)有限公司

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质谱仪,氦质谱检漏仪,分子泵,真空计
产品简介
上海某大学研究室在多层钛膜做微观结构的研究中采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积钛薄膜做加热电路提高器件温度,从而提高光波导器件中硅材料的折射率.
详细信息

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准

钛金属具有许多优异的性能例如低密度高熔点耐腐蚀无磁性和硅基衬底结合力好具有形状记忆和吸氢特性等因此对于磁控溅射沉积钛薄膜的研究有很多.

 

上海大学研究室在多层钛膜做微观结构的研究中采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积钛薄膜做加热电路提高器件温度,从而提高光波导器件中硅材料的折射率.

 

伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:

离子源型号

RFICP220

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>800 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

20 cm Φ

离子束

聚焦,  平行,  散射

流量

10-40 sccm

通气

Ar,  Kr,  Xe,  O2,  N2,  H2,  其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

30 cm

直径

41 cm

中和器

LFN 2000

* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量

KRI 射频离子源 RFICP 220

 

KRI 离子源的功能实现了更好的性能增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.

 

因此该研究项目才采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积工艺.

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵,  检漏仪,  质谱仪,  真空计,  美国 KRI 考夫曼离子源,  美国HVA 真空阀门,  美国 inTEST 高低温冲击测试机,  美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口品牌的代理商.

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:

上海伯东罗先生  


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产品参数

品牌 其他品牌
产地 进口
加工定制
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