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NIE-4000(A)全自动IBE离子束刻蚀

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2022-11-09国外
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参数
品牌:其他品牌 产地:进口 加工定制:是
那诺-马斯特中国有限公司

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薄膜沉积、生长、刻蚀、清洗,磁控溅射,ALD,PECVD,RIE,热蒸镀,电子束,离子束,热真空试验,晶圆清洗机,PA-MOCVD
产品简介
NIE-4000(A)全自动IBE离子束刻蚀:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量,否则光刻胶将变得非常难以去除。
详细信息

NIE-4000(A)全自动IBE离子束刻蚀产品概述:如铜和金等金属不含挥发性化合物,这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下,样品表面采用厚胶作为掩模层,刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量,否则光刻胶将变得非常难以去除。

NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时,旋转晶圆片以达到想要的均匀度。


NIE-4000(A)全自动IBE离子束刻蚀产品特点:

  • 14.5”不锈钢立体离子束腔体

  • 16cm DC离子枪1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板

  • 离子束中和器

  • 氩气MFC

  • 6”水冷样品台

  • 晶片旋转速度3、10RPM,真空步进电机

  • 步进电机控制晶圆片倾斜

  • 自动上下载晶圆片

  • 典型刻蚀速率:铜200 ?/min, 硅:500 ?/min

  • 6”范围内,刻蚀均匀度+/-3%

  • 极限真空5x10-7Torr,20分钟内可达到10-6Torr级别(配套500 l/s涡轮分子泵)

  • 配套1000 l/s涡轮分子泵,极限真空可达8x10-8Torr

  • 磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化

  • 基于LabView软件的PC计算机全自动控制

  • 菜单驱动,4级密码访问保护

  • 完整的安全联锁




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