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高性能聚焦离子束系统 MI4050
具体成交价以合同协议为准
2021-01-05
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产品简介
MI4050是具有以下特征的高性能聚焦离子束系统：新型电子光学系统，可达到世界水准的SIM像分辨率・大束流使加工速度得以提升・提高了低加速电压的分辨率，使得高品质TEM样品制备成为可能可用于截面加工观察，高品质TEM样品制备，电路修复，Vector Scan加工，微纳米级微细图形及磨具加工，利用沉积功能制作3维构造等众多样品加工应用。
详细信息
高性能聚焦离子束系统 MI4050
MI4050是具有以下特征的高性能聚焦离子束系统：新型电子光学系统，可达到世界水准的SIM像分辨率・大束流使加工速度得以提升・提高了低加速电压的分辨率，使得高品质TEM样品制备成为可能
可用于截面加工观察，高品质TEM样品制备，电路修复，Vector Scan加工，微纳米级微细图形及磨具加工，利用沉积功能制作3维构造等众多样品加工应用。
特点
规格
选购件
特点
大探针电流90nA，实现快速加工和大面积加工
焊线的截面加工
（加工尺寸 宽：95µm 深：55µm， 加工时间 20min）
通过提高极低加速电压（0.5kV～）加工及低加速电压二次电子图像分辨率，实现制备损伤率更低的TEM样品
- *
- 1kV以下为选配
可观察高分辨率SIM成像（二次电子成像分辨率高达4nm@30kV）
正常部位
弯折部位
铝罐的截面SIM图像
采用高精度5轴电动机械优中心马达台
可在样品台移动（包括倾斜）时自动对多个部位进行多种加工。
*的操作性能和多种多样的加工模式
- 截面制备程序加工
- TEM/STEM样品程序加工
- 自动连续加工
- TEM样品自动连续精加工软件
- 位图加工
- Vector Scan加工
- 制备纳米精度三维结构样品 其他
悬空纳米导线制作
样品来源：兵库县立大学 松井真二 先生
SIM像三维重构分析
等间隔截面加工与截面观察的往复进行，可取的多张截面连续SIM像，并进行3维重构。由此可判断样品中颗粒，孔洞等3维分布状态。
半导体封装材料中的填料分布分析示例
使用多路气体系统（MGS-II）修复电路
该系统可对应保护膜材料、配线材料、绝缘膜、加速蚀刻等多种用途，照射多种气体。
- 钨沉积气体
- 铂沉积气体
- 绝缘膜制备用沉积气体
- 氟化氙蚀刻气体
- 有机类蚀刻气体
- 碳沉积气体
使用XeF2气体实现的大深径比孔加工
以及采用钨沉积引线
丰富多样的坐标链接功能
日立*公司的坐标链接功能丰富多样，可确定正确的加工位置和大幅缩短时间。
- 光镜图像与SIM像的链接
双光标功能
日本第4634134号 美国第7595488号 - 与缺陷检测设备建立坐标链接
已截断的晶元或芯片也可与缺陷检测设备建立坐标链接。 - CAD联用导航软件
规格
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 样品尺寸 | 50mm×50mm×12mm（t）以下 |
| 样品台 | 5轴电动机械优中心马达台 |
| 加速电压 | 1～30kV （0.5kV～ 选配） （0.5～1.0kV ： 步长0.1kV） （1.0～2.0kV ： 步长0.2kV） |
| 二次电子分辨率 | 4nm＠30kV |
| 大探针电流 | 90nA |
| 大探针电流密度 | 50A/cm2 |
选购件
- 4通道供气系统
- 自动连续加工软件
- TEM样品自动加工软件
- 控制器显微镜 其他
- *
- ：可选择其他MI系列的各种选配件。
关联产品分类
- 场发射扫描电子显微镜 (FE-SEM)
- 透射电子显微镜 (TEM/STEM)
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