托托科技 DMD 无掩模紫外光刻机

托托科技 DMD 无掩模紫外光刻机：微纳制造柔性精密加工新方案

在微电子、生物医药、光学精密器件、MEMS 等制造领域，传统有掩模光刻存在制版周期长、成本高、迭代灵活性不足等痛点，难以适配高校科研快速试错、小批量定制化生产、特种微结构研发等多元需求。托托科技（苏州）有限公司自 2017年成立，依托百人专业技术团队、百余项自主知识产权，深耕精密光学仪器研发制造，推出基于 DMD 数字微镜技术的全系列无掩模紫外光刻机，凭借无掩模、高精度、高适配、多场景的核心优势，为全行业微纳加工提供一站式解决方案，产品客户覆盖香港城市大学等百余家科研院所与五百余家合作企业。

区别于单点式激光直写加工方案，托托无掩模光刻机核心采用 DMD 数字微镜阵列投影光刻技术，实现大面积同步图案化曝光。整套系统由光源模组、匀光模组、DMD 模组、投影模组、高精度运动台模组与配套控制软件协同构成，工作流程简洁高效：上位机导入 GDS、DWG、DXF 格式图形数据后传输至 DMD 模组，微镜依据电信号精准调整反射角度，将携带图形信息的光束经光学系统投射至基片表面；搭配高精度运动平台完成多区域精准拼接，一次性完成大尺寸、复杂微纳图案的转移成型，兼顾加工精度与加工效率。

相较于传统光刻设备，该系列无掩模光刻机具备多项不可替代的核心性能优势。设备无需制作掩模版，配套专属直接绘图功能，省去制版耗材与周期成本，科研人员、研发工程师可快速验证设计思路；加工精度梯度覆盖全面，常规机型满足 1μm 基础加工需求，扫描机型最小特征尺寸可达 0.3μm，多层套刻精度低至 250nm；曝光加工效率，设备加工速度可达 1200mm²/min，大幅缩短大面积样品加工时长；加工幅面选择丰富，标准机型覆盖 2 英寸、6 英寸、8 英寸晶圆规格，定制机型可实现 4㎡、2 米级超大幅面微纳加工。同时设备支持 4096 阶灰度光刻选配，可精细调控曝光光强，精准构建具备层次变化的三维微观结构；主动对焦、绿光指引光精准套刻、阵列光刻等特色功能，分别保障全程成像清晰、多层结构对准、工艺参数批量快速验证，提升工艺稳定性与研发效率。

结合不同用户群体的使用需求，托托科技打造四大细分机型系列，精准匹配科研、量产、教学、生命科学四大赛道。科研版机型采用步进式光刻架构，适配 6 英寸样品，最小特征尺寸 0.4μm，多档位镜头自由切换，兼顾灵活调试与高精度加工，是高校实验室二维材料、量子光学、超表面等前沿课题研究主力设备；高速版为 8 英寸扫描式光刻设备，分为 UV Litho-S 与 UV Litho-S + 两款，精度可达 0.3μm，峰值加工速度 1200–2500mm²/min，适用于掩模版自主制备、小批量器件量产，有效降低企业对外协加工的依赖；教育版为轻量化桌面机型，仅 2 英寸加工幅面，整机重量 75kg，占地空间小、操作门槛低，专为微电子、集成电路相关专业教学实验打造；生命科学系列针对微流控行业定制，兼容 SU-8 超厚光刻胶，可实现 10:1 高深宽比结构加工，支持 400μm 胶厚，适配单细胞分析、生物传感器等生物医疗芯片研发。

托托科技 DMD 无掩模紫外光刻机在材料与微电子领域，设备专属指引光功能可直接在二维材料表面绘制电极，同时支撑 MEMS 微米级精密图形、多层复杂结构加工；生物医疗方向依托生命科学机型完成各类微流控芯片制备；光学器件领域借助灰度光刻技术，批量生产微透镜、菲涅尔透镜、衍射光栅、防伪浮雕、光学调制器件与超表面结构；量子光学领域可加工高精度光波导，实现量子态传输与操控。除此之外，设备可拓展多项定制化解决方案：针对磁性氧化物、Micro-LED、OLED 等厌水厌氧材料，可配套手套箱一体化机型；支持钻石、光纤端面、水晶、曲面发动机叶片等特殊异形衬底光刻；面向超大尺寸工件需求，推出 2 米级超大幅面专属加工设备，覆盖实验室基础研究到工业定制生产全链条需求。

多年来，托托科技持续推动无掩模光刻技术从实验室走向产业化落地。全系列无掩模紫外光刻机凭借灵活无掩模、高精度、高效率、多场景适配的综合优势，打通微纳器件设计、研发、加工全流程，为半导体、生物医疗、精密光学制造等行业提供稳定可靠的精密光刻解决方案，助力国内微纳制造产业实现技术升级与创新突破。