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高灵活性 高精度 科研版无掩模光刻机
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2026-03-09苏州市
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产品简介
托托科技高灵活性 高精度 科研版无掩模光刻机是专为科学研究场景打造的光刻设备，依托DMD无掩模光刻技术核心，适配微电子、集成电路、微纳制造等领域的科研需求，核心包含UV Litho-ACA、UV Litho-ACA Pro+、UV Litho-ACA Master三款型号
详细信息
托托科技高灵活性 高精度 科研版无掩模光刻机是专为科学研究场景打造的光刻设备，依托DMD无掩模光刻技术核心，适配微电子、集成电路、微纳制造等领域的科研需求，核心包含UV Litho-ACA、UV Litho-ACA Pro+、UV Litho-ACA Master三款型号，核心参数与产品特点如下：
一、核心定位与通用优势
1. 专属场景：面向高校、科研院所的科学研究，支持步进式/扫描式光刻两种核心工艺，部分型号搭载光学主动对焦功能，保障光刻聚焦精度；
2. 通用规格：均支持6英寸加工幅面，样品尺寸覆盖3 mm×3 mm至150 mm×150 mm，样品厚度0-10 mm，兼容GDS、DWG、DXF主流数据格式，标配405nm LED光源，380nm/390nm波长可按需选配；
3. 无掩模核心优势：省去制版的时间与资金成本，支持直接绘图、精准套刻等特色功能，可快速验证科研设计想法，大幅缩短研发迭代周期。
二、托托科技高灵活性 高精度 科研版无掩模光刻机各型号核心参数与差异
三、科研适配能力
1. 精度覆盖：从0.4μm到0.8μm的特征尺寸，可满足微纳尺度的电极图案、微米级结构、多层套刻复杂工艺的科研需求，适配二维材料、MEMS、微透镜、超表面等研究方向；
2. 工艺拓展：基础款可选配灰度光刻功能，支持4096阶灰度光刻，能构建复杂层次的微观结构，为光学衍射器件、防伪浮雕结构等方向的科研提供工艺支撑；
3. 协同能力：可配合托托科技的特殊衬底光刻、手套箱版本等解决方案，适配钻石、光纤等特殊衬底，以及磁性氧化物、Micro-LED等厌水/厌氧材料的光刻科研实验。
整体而言，科研版无掩模光刻机通过梯度化的精度与效率设计，覆盖了从基础微纳加工到高精度复杂结构研发的全科研需求，是微电子、光电子、微机械等领域科研的核心设备。
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