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托托科技 无掩模光刻机
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2026-03-10苏州市
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产品简介
托托科技 无掩模光刻机，是基于DMD无掩模光刻技术打造的精密光学加工设备，突破了传统有掩模光刻的制版限制，兼具高灵活性、高精度、高效率等核心优势，可覆盖科学研究、定制化生产、快速原型制造等多场景，广泛应用于微电子、集成电路、生物医药、光学元件等众多领域，还针对不同使用需求打造了多系列细分产品，是微纳制造领域的核心解决方案。
详细信息
托托科技 无掩模光刻机，是基于DMD无掩模光刻技术打造的精密光学加工设备，突破了传统有掩模光刻的制版限制，兼具高灵活性、高精度、高效率等核心优势，可覆盖科学研究、定制化生产、快速原型制造等多场景，广泛应用于微电子、集成电路、生物医药、光学元件等众多领域，还针对不同使用需求打造了多系列细分产品，是微纳制造领域的核心解决方案。
核心性能指标，覆盖多维度加工需求
1. 无掩模灵活设计：省去制版的时间与资金成本，可快速修改图案、验证设计想法，大幅缩短研发迭代周期；
2. 高精度加工：常规满足1μm加工精度，适配高精度微纳结构制造；
3. 高加工效率：光刻速度可达1200 mm²/min，大尺寸样品加工效率优势显著；
4. 超大幅面可选：常规覆盖晶圆级加工，定制可实现4 m²超大幅面加工，也支持2米级微纳加工；
5. 高阶灰度光刻：支持4096阶灰度光刻，可精准构建层次复杂、细腻的微观三维结构，拓展设计可能性。
特色功能，保障加工精准与便捷
1. 直接绘图：快速绘制图案，便捷验证研发想法；
2. 精准套刻：以绿光为指引光实现光刻前对准预览，保障套刻精度；
3. 阵列光刻/参数测试：可快速确认工艺参数，节省实验与生产时间；
4. 主动对焦：光刻前实时对准，确保每次光刻聚焦清晰，提升加工一致性。
托托科技 无掩模光刻机广泛应用方向，覆盖多领域微纳制造
依托核心技术与性能优势，设备可实现平面光刻、灰度光刻等多种工艺，应用覆盖微电子、生物、光学、量子科技等多个领域：
1. 基础电子与微机械：二维材料电极图案绘制、MEMS器件微米级复杂结构加工、集成电路相关微纳制造；
2. 生物医药：微流控芯片制造（适配单细胞分析、生物传感器），支持超高深宽比结构加工；
3. 光学元件与器件：微透镜、光栅、菲涅尔透镜等衍射结构制造，光学衍射器件、超表面加工（实现光波精细操控）；
4. 防伪与特种结构：高精度防伪浮雕三维微结构制造；
5. 前沿科技：量子光学光波导结构刻蚀（实现量子态传输与操控）；
6. 配套制造：小批量、定制化掩模版制备（支持9英寸），减少外部依赖，缩短设计周期。
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