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高速椭偏仪ME-210
具体成交价以合同协议为准
2025-12-28北京市
- 型号
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产品简介
日本Photonic Lattice, Inc.基于自研的光子晶体技术开发的一款高速膜厚测量仪ME-210，与传统点测的椭偏仪不同，ME-210通过点扫描的方式可以快速的得到整面的膜厚信息，每分钟可取得1000个点的膜厚数据，6寸晶圆3分钟可取得整面的膜厚mapping，重复测量精度0.1nm，透明基板也可测量。
详细信息
产品说明
常规椭偏仪是单点测试，因此要取得整面膜厚均匀性数据是需要N个小时的工作，而且小的测量分辨率就是激光光斑大小，
无法取得微小区域的膜厚分布数据。
ME-210是采用独自开发的微小偏光阵列片（光子晶体）来克服上述两大问题的设备。
产品特点
能以快速取得大12inch基板上的膜厚分布
能以高分辨率取得微小区域的膜厚分布（设备高分辨率为5.5um*5.5um）
设备软件具有模拟功能，因此能比对模拟值与实际值来评估成膜工艺
透明基板的膜厚测量
规格参数
| 重复精度 | 薄膜厚度：0.1nm 折射率：0.001 *Si 上的 SiO2 膜（厚度约 100nm）的一点重复测量 100 次时的标准偏差值 |
| 测量速度 | 900 点/分钟以上（广域模式 100mm 方形区域测量） 5000 点/分钟或以上（高清模式 1mm 方形区域测量） |
| 光源 | 半导体激光器（波长 636nm） |
| 测量点 | 广域模式：0.5mm 高清模式：5.5μm |
| 入射角度 | 70 度 |
