SE200BA-M300椭偏仪测量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析设备产品简介椭偏仪是一种利用光的偏振态变化来进行薄膜性质表征的仪器,主要用来测量薄膜材料的厚度、NK参数等性质
SE200BA-M300椭偏仪测量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析设备
产品简介椭偏仪是一种利用光的偏振态变化来进行薄膜性质表征的仪器,主要用来测量薄膜材料的厚度、NK参数等性质。椭偏仪的主要原理是将自然光(紫外光、可见光以及红外光)变成偏振光后通过一定角度入射到样品上,偏振光进入样品介质后会反射回到椭偏仪检偏器内,由于样品介质会对偏振光的偏振态发生改变,而这种改变会被椭偏仪测量,椭偏仪就是利用这个介质对偏振光性质改变的原理来表征介质的性质的。
SE200BA-M300型号实现250nm到1000 nm超长波段的探测,可实现对材料紫外、可见和红外波段的全覆盖测量研究,同时可搭配自动平台扫描、自动变角、微光斑探测以及平台加热等功能满足不同应用需求。
设备配置型号:SE200BM-M300
探测器:阵列探测器
光源:高功率的DUV-Vis-NIR复合光源
测量角度变化:手动调节
平台:ρ-θ配置的自动成像
软件:TFProbe 3.2版本的软件
计算机:Inter双核处理器、19”宽屏LCD显示器
电源:110–240V AC/50-60Hz,6A
保修:一年的整机及零备件保修
波长范围:250nm到1000 nm
波长分辨率: 1nm
光斑尺寸:1mm至5mm可变
入射角范围:0到90度
入射角变化分辨率:5度间隔
样品尺寸:zui大直径为300mm
基板尺寸:zui多可至20毫米厚
测量厚度范围*:0nm〜10μm
测量时间:约1/位置点
精度*:优于0.25%
重复性误差*:小于1 Ǻ
参数规格波长范围:250nm 到 1000 nm
波长分辨率: 1nm
光斑尺寸:1mm 至 5mm 可变
入射角范围:10 到 90 度
入射角变化分辨率:0.01 度
样品尺寸:zui大直径为 300mm
基板尺寸:zui多可至 20 毫米厚
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