为了获得具备电磁屏蔽能力的 PPS, PEEK等高分子轻量化材料, 但 PPS, PEEK 导电性能差、无电磁波屏蔽能力或者达不到理想的屏蔽效果, 因此, 某机构采用磁控溅射镀膜工艺对 PPS、PEEK 等材料结构件产品表面进行金属化处理.
其工艺主要分为前处理、镀膜、后处理等三个环节.
前处理需要对 PPS/PEEK 待镀衬底面进行 Hall 离子源清洗, 该机构采用伯东 KRI 考夫曼 霍尔离子源 eh 3000 对 PPS/ PEEK 衬底面进行清洗.
KRI 考夫曼 霍尔离子源 Gridless eH 3000 主要技术参数:
离子源型号 | 霍尔离子源 eH3000 |
Cathode/Neutralizer | HC |
电压 | 50-250V |
电流 | 20A |
散射角度 | >45 |
可充其他 | Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others |
气体流量 | 5-100sccm |
高度 | 6.0“ |
直径 | 9.7“ |
水冷 | 可选 |
其溅射室需要沉积前本底真空抽到 1×10-5 Pa, 经推荐采用伯东经济型分子泵组 HiCube 30 Eco, 其技术参数如下：
泵组型号 | 进气法兰 | 分子泵 | 抽速 | 极限真空 | 前级泵型号 | 前级泵 |
Hicube 30 Eco | DN 40 ISO-KF | Hipace 30 | 22 | 1X10-7 | MVP 015-2 | 1 |
运用结果：
1. KRI 考夫曼 霍尔离子源 eh 3000 对衬底面良好的清洗, 提高了膜层的附着力
2. 经济型分子泵组 HiCube 30 Eco快速将本底真空抽到 1×10-5 Pa, 并稳定保持整个过程的真空度
伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口品牌的代理商.
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