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美国 KRI 霍尔离子源 eH 2000 等离子清洗器

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2022-10-19上海
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参数
品牌:其他品牌 产地:进口 加工定制:是
上海伯东企业有限公司

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产品简介
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 2000 特别适合大中型真空系统, 带有水冷方式, 低成本设计提供高离子电流. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”
放电电压 / 电流: 50-300V / 10A 或 15A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
详细信息

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 2000 特别适合大中型真空系统, 带有水冷方式, 低成本设计提供高离子电流. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.

尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”

放电电压 / 电流: 50-300V / 10A 或 15A

操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

 

伯东 KRI 霍尔离子源 eH 2000 特性:

1.水冷 - 与 KRI 霍尔离子源 eh 1000 对比, 提供更高的离子输出电流

2.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极

3.宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率

4.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便

5.高效的等离子转换和稳定的功率控制

 

伯东 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列在售型号及技术参数:

离子源型号

 

霍尔离子源

eH2000
eH2000LE
eH2000HO

Cathode/Neutralizer

F or HC
HC
HC

电压

50-300V
30-150V
50-250V

电流

10A
15A
15A

散射角度

>45

可充其他Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

气体流量

2-75sccm

高度

4.0“

直径

5.7“

水冷

 

伯东 KRI 霍尔离子源 eH2000 应用领域:

1. 离子辅助镀膜 IAD

2. 预清洗 Load lock preclean

3. 预清洗 In-situ preclean

4. Direct Deposition

5. Surface Modification

6. Low-energy etching

7. III-V Semiconductors

8. Polymer Substrates

 

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产品参数

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产地 进口
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