Vion Plasma 聚焦离子束系统

Vion Plasma 聚焦离子束系统

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2022-05-10 09:23:17
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产品简介

FEI Vion™ Plasma 聚焦离子束系统 (PFIB) 能使您的实验室实力大增,因为只需这一台使用简便的设备便可获得**的光刻和成像性能。采用等离子源技术的 Vion PFIB 拥有比传统镓 FIB 仪器更高的吞吐量,具体来说,位置特异性切片分析、大面积光刻和样本制备的速度提高了 20 倍以上。Vion PFIB 在低离子束电流下也能实现的光刻精确度和高分辨率成像,能够快速、准确地生成......

详细介绍

FEI Vion™ Plasma 聚焦离子束系统 (PFIB) 能使您的实验室实力大增,因为只需这一台使用简便的设备便可获得**的光刻和成像性能。采用等离子源技术的 Vion PFIB 拥有比传统镓 FIB 仪器更高的吞吐量,具体来说,位置特异性切片分析、大面积光刻和样本制备的速度提高了 20 倍以上。Vion PFIB 在低离子束电流下也能实现的光刻精确度和高分辨率成像,能够快速、准确地生成高对比度图像,这对众多工艺控制、失效分析或材料研究应用至关重要。

性能特点

Vion PFIB 的材料科学应用
Vion PFIB 特别适合用于金属、复合物和涂层,并支持众多材料表征、失效分析和样本制备应用。

快速制作位置特异性切片,同时直接对样本成像以实现实时监控目的
提高铣削速度,无需为大面积及重复性铣削项目以及钢等低溅射速率材料而**质量
开展动态压缩或拉伸测试时,迅速对结构和表面执行位置特异性显微加工。
开展电子背散射衍射分析时,制备高质量的位置特异性表面;制备适用于 SEM 和 TEM 等其他成像和表征技术的标本
获得亚 30 nm 图像分辨率,以便快速识别与测量薄层及结构
Vion PFIB 的电子工业应用
高吞吐量三维封装分析
Vion 等离子 FIB 是一款能够进行高精度高速切削和铣削的仪器。它能够有选择地对兴趣区域进行铣削。此外,这款 PFIB 还能有选择地沉积构成图案的导体和绝缘体。
通过将高速光刻与**控制相结合,系统可以多种方式用于 IC 生产,例如:

隆起物、丝焊、TSV 和晶片堆叠失效分析
精确移除封装和材料,以便开展失效分析以及隔离掩埋的芯片上的故障
在封装级别开展工艺监控和开发
对封装的零件和 MEMS 器件开展缺陷分析

应用领域

扫描电镜**地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析,各种材料的形貌组织观察,材料断口分析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体、晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶粒取向测量。

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