概述：

美国LPDT一体式水份分析仪采用HTF（超薄膜氧化铝）传感器技术测量气体中的微量水份。相比与传统氧化铝技术，HTF（超薄膜氧化铝）技术具有快速响应性、高敏感性和*稳定性的优点。

 原理：

氧化铝水份测量原理:
所有的氧化铝水份测量原理都是相同的 -- 传感器的电容量随水分子在氧化铝层中的浓度变化而变化。传感器电容的电极是外表的镀金层和内部的铝芯。 传统的氧化铝技术是在60 - 70年代的研究和开发成果。
HTF -超薄膜氧化铝技术
HTF （超薄膜氧化铝技术） 是90年代金属表面氧化技术的成果。 氧化铝超薄膜技术具有如下的结构优点:
1. 超薄膜 HTF 在铝表面形成非常薄的的氧化层。 超薄的氧化层使水分子更加自由的进出氧化层, 从而大大提高传感器的响应速度。 HTF技术比传统氧化铝技术的响应速度快几倍。
2. 过度层HTF技术的铝和氧化铝的过度层非常薄, 从而使传感器的电极非常接近（外表的镀金层和内部的铝芯）。 因而传感器在干湿转换过程中的电容量变化非常明显。 相比传统的氧化铝技术, 这种高电容量变化特性有效的抑制其它外界因素对传感器电容量的影响, 如环境温度和老化的因素。
3. 氧化铝薄膜的多孔几何结构HTF氧化铝表层的多孔几何结构是非常不同与传统氧化铝表层的吸水结构。当水分子进入HTF氧化铝表层的多孔几何结构时, 从而增加了电介质, 提高了电容量。另外, HTF氧化铝表层的多孔几何结构可以保证*的结构稳定性。相比之下传统氧化铝表层的吸水性结构缺少结构稳定性, 随着时间的推移, 氧化铝表层的吸水结构会退化成非吸水结构。
HTF技术的测量优势
1. 与传统氧化铝传感器相比, HTF传感器具有300倍以上的湿度敏感性
2. HTF传感器具有*的稳定性和抗老化性
3. 温度对HTF传感器整个测量范围的影响可以忽略
4. 具有很强的抗腐蚀和抗污染性
5. HTF传感器无需定期的飘移校验

技术规格：
传感器： 超薄膜型高电容量氧化铝
露点范围：XTR-100型: -100°C 至 +20°C （-148°F 至 +68°F）
XTR- 65型: -65°C 至 +20°C　（-85°F 至 +68°F）
电　容：15 nF 至 200 nF
精　度：±3°C
重 复 性：±0.5°C
温度范围：-30°C 至 +50°C （-22°F 至 104°F）
样品流量：100m/s
压力标准: 34巴
特　殊: 340巴
指 示 器：LCD数显, 露点°C,ppmv, gH2o/m3; 等
输　出：4-20mA