SU-8光刻胶

品牌：gersteltec

品牌： 瑞士GES公司提供多种不同组成的、基于IBM开发的环氧树脂胶－SU-8及功能性SU-8光刻胶，能为您带来竞争力发展空间；可根据您的需要提供多种方便使用的、含有不同类型填料、色素、墨水以及溶剂如醋酸酯、芳香烃等的配料光刻胶产品。

应用：GES公司光感环氧树脂光刻胶包括*的功能性SU-8光刻胶满足并超微系统器件厂商的需要，在半导体工业、微纳米技术应用领域具有较强的优势。使用传统UV光刻技术等对超厚SU-8及功能性SU-8光刻胶进行图案化，广泛用于MEMS、MOMES、UV-LIGA、显示器、柔性显示器、微流道、生物医学、半导体、封装、太阳能、光子晶体、微燃料电池等领域。
GES公司开发的SU-8及功能性SU-8光刻胶主要用于需要甩胶厚度大、高深宽比并且垂直侧壁形状的应用；能够使用几种不同光刻技术如X射线、紫外及电子束曝光等进行图案制作。

1. GLM 2060 甩胶范围：5 - 28 μm 可用于绝缘的、低应力的、钝化层 低热膨胀（CTE 27 (ppm/K)） 低温工艺95 - 120 °C 其他厚度可根据要求提供

2. GCM3060 甩胶范围：1 - 50 μm 导电光刻胶，电导率100-1000000 (S/m)

3. GMC10xx 甩胶范围：0.8 - 5 μm（GMC1040）、5 – 50 μm（GMC1060）、15 - 200 μm（GMC1070） 在紫外-可见-近红外波长做标记或滤光作用 多种颜色如红色、蓝色、黄色、紫色、绿色等光刻胶可供选择 其他胶厚可根据需要提供

4. GMPI 10xx 生物领域应用，不含锑 多种胶厚可供选择

5. 丙烯酸基光刻胶 微流道应用 多种胶厚可供选择

6. GMCD 10xx 滤光、显示器、隐藏缺陷 黑色 多种胶厚可供选择

7. GM1010和GM1020 电子束曝光应用

8. GCM3060 质子束曝光应用

9. GM10xx 用于喷墨沉积图案制作

10. GLMPI2075 激光光刻应用

11. GMCNT 含碳纳米管SU-8光刻胶，包括绝缘型（SWCNT）和导电型（MWCNT）