关键词：金属薄膜，氮化铝、压电薄膜、AlN、Si3N4薄膜、MEMS

              TiN薄膜，抗腐蚀硬质膜，半导体薄膜，氧化物绝缘层

型号：MP450S，  产地：欧洲 ， 应用：沉积硬质膜，半导体膜，氧化物绝缘层等。

反应磁控溅射镀膜仪是微米纳米器件制备的设备，可用于制备普通金属薄膜，氮化铝(AlN)压电薄膜，Si3N4薄膜，TiN薄膜，抗腐蚀硬质膜，半导体薄膜，氧化物绝缘层等，适用于半导体，光电子学，光子学，微机电系统（MEMS）和微流体技术等领域。

MP450S 配置 如下：

腔体尺寸：内径450mm、高度400mm，电解抛光不锈钢腔体

真空系统：采用1000l/s分子泵（可选择低温泵）+30m3/h机械泵

                  配备薄膜真空计、潘宁真空计

磁控阴极：2个3英寸DC/RF磁控阴极，可倾斜35°

                  与样品台的距离手动可调（8-13cm）

                  每个阴极配备一个 圆柱形挡板，防止污染

                  每个阴极配备一个电气阀

阴极电源：一个500W,800V，0.9A， 13.56MHz射频电源（可以升级到2kW）

                 允许共溅射或顺序溅射

反应气路：3条气路（Ar、N2,、O2），每个气路配备MFC

                                   采用主腔体粗抽泵抽真空

                                   配带皮拉尼真空计

控制系统：全自动控制，半自动和手动模式可用

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