EMITECH K575X 高分辨率溅射仪  ——Peltier制冷型  本系统装配了磁控管靶，靶面直径为54 mm，可快速更换靶材。  溅射头用Peltier制冷，可得到高性能、精细颗粒的涂层（无需水冷却）。  溅射时参数可预设，包括气体放气电磁阀。  K575d（双头）其它与K575X相同，只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时，不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。  注：K575d技术规格与K575X相同，但它具有两头。K575X具有peltier制冷，对于比较厚的沉积，通常用K575d（双头）单元，它需要用水冷却。  仪器特点   ● 全自动控制  ● Peltier冷却溅射头  ● 精细镀层（0.5nm Cr粒子）  ● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置  ● 薄膜沉积（典型为5nm）  ● 直径为165mm腔室  ● 可选双溅射头  ● 可接膜厚测控仪  仪器优点   ● 可溅射易氧化金属精细颗粒，如：铬或铱  ● 易操作  ● 无需水冷却  ● 超高分辨率，可复制涂层  ● 适应各种样品  ● 重复膜厚沉积  ● 样品容易装载和卸载  ● 不需要打开真空即可进行顺序涂层  ● 沉积厚度可预设  技术规格  仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H  工作腔室：硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H  安全钟罩：聚碳酸酯  基座： 110 mm直径x 115mm高  重量：42公斤  靶：54 mm 直径 x 0.2mm 厚(铬作为标准靶材)  样品台：60mm直径，具有倾斜功能的旋转台  真空范围：ATM-1x10-5 mbar  操作真空：1 x 10-3 mbar到 1 x 10-4 mbar  溅射电流：0-150mA  沉积速率：0-20nm/分  溅射定时：0-4 分钟  涡轮分子泵：60 litres/Second (极限真空 1x10-8 mbar)  Services - Argon - Nominal 10 psi；             Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas)  真空泵：No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr  电源：230 伏 50Hz(包括泵zui大电流为6安培)        115 伏 60Hz(包括泵zui大电流为12安培)