SAL-1000 ALD原子层沉积系统

SAL-1000Series是由日本AGUS生产的桌面型ALD原子层沉积设备，可搭载2路前驱体。适用于4英寸（φ 100mm）基片的沉积，并可搭载粉末样品架和手套箱。

SAL-1000Sseries原子层沉积设备具备如下特点：

1. 良好的成膜性能，膜厚均匀性高，≤3%

·对于内孔、凹槽与高深宽比结构具有良好的沉积均匀性； · 膜厚可精准控制达一个原子层； · 大面积制程可达到无孔洞薄膜（Pin Hole free） · *的重复性及稳定性 · 材料缺陷密度低 · 可成长非晶型或结晶薄膜（选择温度）

2. 优异的真空性能，真空度≤5Pa

3. 触控操作，简单易用；

·触摸屏使用户可以轻松设置配方或沉积过程，并检查每个驱动系统的运动。

4. 配件丰富，可满足多种试验需求：

基底旋转架、粉末样品配件、手套箱、臭氧发生器、尾气处理设备、200℃前驱体的加热器，干式真空泵等；

粉末沉积配件：倾斜框架可调整的角度为0 ~ 45°，更便于粉末成膜。单次可对5cm³的粉体进行表面沉积；