真空镀膜机要分类有两个大种类： 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等 。

一、对于蒸发镀膜：
 
 一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。

 厚度均匀性主要取决于：
  1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
  2、基片表面温度
  3、蒸发功率，速率
  4、真空度
  5、镀膜时间，厚度大小。
 
 组分均匀性：

 蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

 晶向均匀性：

  1、晶格匹配度
  2、基片温度
  3、蒸发速率

 溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

 溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。