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PhaseCam 6010 紧凑型
PhaseCam6000系列干涉仪是美国4D技术公司的经典产品，适用于大口径、长光程光学元件及系统的测量。PhaseCam6010 ，采用光源与干涉仪分离的设计，主机尺寸非常小，并配有专用五维调整架可选，易于安装定位，特别适合光路装调，是凹面望远镜、透镜、离轴三反系统、卡式望远镜系统、长焦距平行光管、低温光学真空实验等测量的理想仪器。PhaseCam6010干涉仪采用单CCD相位相关探测器，可以在...... 参考价面议 -
PhaseCam 4030 经济型
PhaseCam4030干涉仪是美国4D技术公司的经典产品PhaseCam4020的升级型号，适用于大口径、长光程光学元件及系统的测量。PhaseCam4030将激光光源与干涉仪主机集成为一体，机身较分体式的PhaseCam6010或PhaseCam6110 更长。PhaseCam4030干涉仪采用单CCD光学相位探测器，可以在35微秒内进行波前测量，在振动及气流的场合实现高精度测量。PhaseC...... 参考价面议 -
PhaseCam ESPI 电子散斑动态干涉仪
ESPI电子散斑干涉仪，用来解决漫反射表面的形变测量问题。PhaseCam ESPI动态电子散斑干涉仪，可以解决在现场环境下的表面沿轴向的一维形变测量问题，精度达到nm级，而不用考虑环境振动带来的影响。 应用于大口径拼接镜的背部支撑材料的微变形测量。经典应用案例：美国JWST太空望远镜的主镜的背部碳纤维支撑结构的微变形测量。PhaseCam ESPI是在P6110的基础上开发的，采用532nm高能...... 参考价面议 -
PhaseCam 6110 高分辨型
PhaseCam6110是PhaseCam6000系列干涉仪的另一个型号，有助于提高大口径光学元件面形测量的分辨率，适合数字加工以及高分辨系统的装调。PhaseCam6110 ，采用光源与干涉仪分离的设计，主机尺寸较小，同样配有专用调整架，易于安装定位，便于五维调整，是凹面望远镜、透镜、离轴三反系统、卡式望远镜系统、长焦距平行光管、低温光学真空实验等测量的理想仪器。基于PhaseCam6110，衍...... 参考价面议 -
PhaseCam IR 红外型
PhaseCamIR红外干涉仪涵盖中波红外和长波红外， 是美国4D技术公司基于其动态干涉仪技术推出的红外泰曼格林型动态干涉仪；采用两个输出端设计，一端用于安装球面扩束镜头，输出球面波，另一端用于安装平面扩束器，扩成大口径平行光，输出平面波。PhaseCamIR ，采用动态干涉技术，对振动和气流不敏感，可以在气流扰动和振动环境下进行高精度测量。适合于红外光学系统的装调。 参考价面议 -
PolarCam 同步偏振相机
PolarCam同步偏振相机能从一帧图像中获得多个偏振角度的图像信息，且不会产生图像模糊问题。小巧、快速、实时成像，这些特点使得它能够应用在图像增强，偏振测量等领域，如过程控制，医疗图像，远程传感等。微偏振器直接和传感器结合在一起，因此不存在运动部件，提供了一个全固态，焦平面划分的结构。配有PolarView软件，可以对采集的偏振图像信息进行分析。 参考价面议 -
scia Mill 150
scia Mill 150适用于在多种材料复杂多层膜上的微结构刻蚀。该系统对活性气体相容，能够进行反应蚀刻工艺以提高选择性和刻蚀速率。由于其节省空间的设计，scia Mill 150是小规模生产和研发应用的理想选择。 参考价面议 -
scia Mill 200
scia Mill 200适用于在多种材料的复杂多层膜上进行微结构刻蚀，样品尺寸可达直径200mm。该系统对活性气体相容，能够进行反应蚀刻工艺以提高刻蚀选择比和刻蚀速率。scia Mill 200采用灵活的模块化设计，可以有单样品的适合研发的版本，也可以进行组合式布局最多至3个工作仓和2个晶圆载具load-lock，以适合批量生产。 参考价面议 -
scia mill 300
scia Mill 300适合针对直径达300 mm的各种基底材料的离子束刻蚀。该系统对活性气体相容，能够进行反应蚀刻工艺以提高刻蚀选择比和刻蚀速率，并可配备不同的终点检测装置以精确地控制工艺过程。scia Mill 300采用灵活的模块化设计，既可用于盒式装载的大批量生产，也可用于单基板装载的小规模生产。 参考价面议 -
scia Trim 200
scia Trim 200用于晶圆或光学元件的高精度表面离子束修整或抛光，而不受薄膜和材料的限制。该系统专为批量生产而设计，具有满足产能和维护的优化布局，可以配有能容纳标准晶圆尺寸的半导体载具机器手。此外，组合布局可选2个工作仓和2个载具loadlock以提高产能。 参考价面议 -
scia Finish 1500
Scia Finish 1500离子束抛光机用于高精度光学元件的表面抛光。该IBF系统采用高去除率、高稳定离子束源，配备高效真空系统，可用于24/7运行的批量生产。 参考价面议 -
scia Coat 200
scia Coat 200双离子束溅射镀膜机，具有的均匀性，适用于直径达Φ200 mm基底的镀膜。用离子束溅射镀膜代替其他镀膜工艺，可以获得光滑无缺陷的薄膜。在线膜厚光学监控确保了良好的工艺稳定性。此外，该系统能够适用包括晶圆在内的任意形状的基板。 参考价面议