Helios 5 PFIB DualBeam

用于 TEM 样品制备（包括 3D 表征、横截面成像和微加工）的等离子体聚焦离子束扫描电子显微镜。

Thermo Scientific Helios 5 Plasma FIB (PFIB) DualBeam（聚焦离子束扫描电子显微镜或 FIB-SEM）是具有的功能，专用于材料科学和半导体应用的显微镜。材料科学研究人员可以通过 Helios 5 PFIB DualBeam 实现大体积 3D 表征、无镓样品制备和精确的微加工。半导体设备、包装技术和显示设备的制造商通过 Helios 5 PFIB DualBeam 可实现无损伤、大面积反处理、快速样品制备和高保真故障分析。 

半导体的主要特点：

半导体设备反处理

Dx 化学处理结合等离子 FIB 束可以为高级逻辑、3D NAND 和 DRAM 提供、位点特定、反处理和故障分析工作流程。

高速大面积横截面成像

新一代 2.5 μA Xenon PFIB 色谱柱可实现高通量、高品质、统计学相关的 3D 表征、横截面成像和微加工。

TEM 样品制备

通过 PFIB 反处理结合 Thermo Scientific 引导工作流程，实现高质量、单层面和横截面、自上而下和倒置 TEM 样品制备。

亚纳米低能量 SEM 性能

凭借具有高电流 UC+ 单色器技术的 Elstar 电子色谱柱，可以在低能量下实现亚纳米性能，从而显示最细致的细节信息。

的自动化

执行带端点的自动反处理。SmartAlign 和 FLASH 技术使具有任何经验水平的用户在短时间内获取纳米级信息。

完整的样品信息

可通过多达六个集成在色谱柱内和透镜下的集成检测器获得清晰、精确且无电荷对比度的最完整的样品信息。

无伪影成像

通过原位自动摇摆抛光和专用成像模式（如 SmartScan 和 DCFI 模式）获取无伪影成像。

精确的样品导航

体验通过灵活的 5 轴电动平台配置和超高分辨率平台选项，专为满足不同应用需求定制的精确样品导航。