卧式6寸两管退火炉供大规模集成电路、MEMS 生产线用做6"硅片的合金、氧化、退火、烧结、扩散等工艺使用。同时也可下沉工艺，完成4寸wafer 的相应工艺。
一、设备结构:
1、操作方式:左(右)手操作方式
2、硅片尺寸:圆形6寸片
3、工艺布局:满足客户工艺要求

4、自动化程度:工控机控制系统自动控制工艺流程
5、送取片方式:手动进出舟。
6、外形:主机1台，主机架为卧式两管。
二、主要技术参数:
1、加热炉管有效口径:满足6英寸硅片。可向下兼容5寸和4寸硅片。
2、工作温度范围:上管:600~1400℃
           下管:200~500℃
3、恒温区长度及精度:600mm，
                  上管:800-1400℃.±0.2℃/24h
                  下管:200-500℃.±0.2℃/24h
4、控制方式:由工控机统一管理工艺
5、气路设置:每管两路气体:氮气100L/min.氩气100L/min。均采用MFC自动控制流量大小。

青岛晨立电子有限公司可根据客户需求定制各种： 非标高温炉、管式炉、快速烧结炉、快速退火炉、快速升降温炉、快速升温炉、快速降温炉、真空烧结炉、焊接炉、IGBT焊接炉、真空焊接炉、实验室焊接炉、真空炉、烤盘炉、真空烤盘炉、CVD烤盘炉、MOCVD烤盘炉、扩散炉、退火炉、合金炉、交换炉、升华炉、氧化炉、气氛炉、氢气炉、CVD炉、隧道炉及工业炉专用炉体 等各种工业、实验室用热处理设备、卧式6寸两管退火炉。