（参考外形，以实物为准）

电子在电场的作用下，飞向基片过程中与气体原子发生碰撞，使其电离产生出气体正离子和新的电子；新电子飞向基片，离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子借助于靶表面上形成的正交电磁场，被束缚在靶表面特定区域，增强电离效率，增加离子密度和能量，从而实现高速率溅射。

主要应用：

适用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜（金膜、铂金、银、镍、铜等），仪器操作简单方便，是配合各类型扫描电子显微镜制样的仪器。是制备低维度，小尺寸纳米材料器件实验手段，广泛应用于集成电路，光子晶体，低维半导体、微生物、超微膜材料等领域。

配套世界主流扫描电子显微镜厂家：

热电（美国原荷兰）FEI钨丝阴极、场发射、飞纳台式等各类型电子显微镜，蔡司（德国）钨丝阴极、场发射各系列的扫描电子显微镜，JEOL（日本电子）各类电镜，日立（日本）各系列电镜、台式电镜，TESCAN泰斯肯（捷克）各系列电镜，还有如韩国“赛科”、COXEM库赛姆、MIRERO等电镜品牌及所有需要样品前期处理，提高成像质量、增强导电性能等表面镀膜处理的样品制备工作。

低温磁控型

1.显示操作面为30°斜面，充分考虑操作的便捷和视觉体验，方便观察操作；

2.真空泵连接管路为金属波纹管，美观耐用；

3.微调阀调节灵敏准确，带有刻度标识；

4.真空泵抽速快，噪音低，适合实验室使用；

5.控制电路为控制板，工作稳定可靠；

6.显示控制操作部分布局合理，使用方便；

7.结构简单可靠，布局合理，维修操作空间大；

8.自动真空的进排气，关机自动放弃（标准版手动放气）

9.优化机型外观，整洁大方，体积灵巧；

10.数字方式定时，0-9999秒区间自主调节；

11.采用冷阴极磁控溅射靶头；

12.升降式上翻盖结构，更换样品方便快捷；

13.采用定制“凹”密封，更加方便操作；

14.增大样品处理室空间，φ150X110高硬度耐高温石英晶体；

15.定制型真空泵排气过滤器；

16.独立式升降样品台组件（标准为2支柱紧固型）；

u 石英处理室：

Φ150mm,高度110mm;

u 溅射类型：

冷阴极磁控型二级溅射；

u 样台尺寸：150mm,样品台插孔61个可选；

可升降和手动旋转

u 样品更换：升降式上翻盖结构，上盖打开可独立支撑

u 靶材尺寸：Φ50（可选配定制高效率靶材）;

u 真空系统：型德国进口无油涡旋真空泵2L/S；

u 真空检测：定制皮氏计，配合真空指针表，灵敏可靠；

u 真空保护：20Pa配有微量充气阀调节工作真空；

u 真空泄压：自动进排气（无需手动放气阀）；

u 电路保护：过载保护；

u  工作室工作媒介气体：空气或氩气，配有氩气专用进气口；

涂层的厚度

   一般来说，用于扫描样品时金属的厚度为100—300 Å，经验的厚度测定可由下面的公式得到：

        d=KIVt

   其中d是以“埃”为单位的镀膜厚度。

   K是常数，取决于溅射金属和所充气体，此时靶与样品之间的距离大约是5cm。

   I是等离子流的单位mA。

   V是以“KV“为单位所施电压（1.68KV）。

   t是以秒为单位的时间。

采用金靶和氩气时K为0.17，如用空气K为 0.07。因此对于典型的溅射。

例如：I为8mA，t为100秒则，d=KIVt=0.17´8´100=136 Å

即每秒1.36 Å

溅射速度依赖于溅射系统本身的清洁程度，因此保护工作室的清洁十分重要。