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本实验装置由本公司与浙江大学共同研制。
镀膜原理
真空溅射离子、电子飞速运动，放电离子飞速轰击机台靶面，溅击大量(银、铜等)介质，原子逐步沉积到基片衬底表面成膜。
主要实验内容
☆不同金属材料薄膜制备;
☆利用空阴极放电制备了CU和Ag涂层研究空阴极对薄膜结构;
☆在光学材料上薄膜的制备及特性的测量的影响;
☆研究离子轰击对膜性质的影响。
仪真空系数:旋片式真空泵，单相220V，抽速4L/s，极限真空:6×10-1Pa。
☆工作气压:10~200Pa;
☆工作电压:0~1500V可调
☆工作电流0~200mA可测量
☆基台加热控温系统室温200度;
☆溅射镀膜钟罩直径140mm高度150mm;
☆基台可升降，可调范围:10~50mm。
