搜索历史
-
大尺寸原子层沉积系统 技术成熟 放心选购
设备规格工艺温度：温度范围：RT~500°C（可定制）前驱体路数：支持6路前驱体气路（可定制) 参考价面议 -
原子层沉积系统手套箱集成系列 放心选购 技术成熟 资质齐
设备规格工艺温度：温度范围：RT~500°C（可定制）前驱体路数：支持6路前驱体气路（可定制) 参考价面议 -
ALD原子层沉积系统粉体包裹系列
工艺可沉积薄膜种类和应用场景包括：•High-K介电材料(Al2O3,H2O,ZrO2,PrA1Q,Ta205,La2O3) 参考价面议 -
超高真空系列原子层沉积系统
工艺可沉积薄膜种类和应用场景包括：•High-K介电材料(Al2O3,H2O,ZrO2,PrA1Q,Ta205,La2O3) 参考价面议 -
等离子体增强原子层沉积系统ALD
工艺可沉积薄膜种类和应用场景包括：•High-K介电材料(Al2O3,H2O,ZrO2,PrA1Q,Ta205,La2O3) 参考价面议 -
ZetaCAD®Zeta电位仪
Zeta电位仪 参考价面议 -
PICOSUN™ ALD ALD原子层沉积系统（ALD P-1000 Pro ）
原子层沉积系统（ALD P-1000 Pro ） 参考价面议 -
PICOSUN™ ALD ALD P-300 BV原子层沉积系统（ALD P-300 BV）
原子层沉积系统（ALD P-300 BV） 参考价面议 -
PICOSUN™ ALD P原子层沉积系统（ ALD P-200 Pro）
原子层沉积系统（ ALD P-200 Pro） 参考价面议 -
PICOSUN™ ALD P-300 Advanced原子层沉积系统（ALD P-300 Advanced）
原子层沉积系统（ALD P-300 Advanced） 参考价面议 -
PICOSUN™ ALD R-200 Advanced原子层沉积系统（ALD R-200 Advanced）
原子层沉积系统（ALD R-200 Advanced） 参考价面议 -
PICOSUN™ ALD R-200 Standard原子层沉积系统（ ALD R-200 Standard）
原子层沉积系统（ ALD R-200 Standard） 参考价面议