原子层沉积系统( ALD R-200 Standard)

PICOSUN™ ALD R-200 Standard原子层沉积系统( ALD R-200 Standard)

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-10-05 09:16:22
141
产品属性
关闭
北京正通远恒科技有限公司

北京正通远恒科技有限公司

免费会员
收藏

组合推荐相似产品

产品简介

原子层沉积系统( ALD R-200 Standard)

详细介绍

名称:原子层沉积系统
品牌:PICOSUN
产地:芬兰
型号:PICOSUN™ ALD R-200 Standard
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现的均匀性,包括挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的,易更换的前驱源系统,能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立的,分离的源入口匹配多种类型的前驱源。PICOSUN™ R系列的扩展性使ALD工艺可以从研究环境直接过渡到生产环境的PICOSUN™ P系列ALD系统。由于研发型与生产型PICOSUN™反应腔室核心设计特点都是相同的,这消除了实验室与制造车间之间的鸿沟。对大学来说,突破创新的技术转化到生产中,就会吸引到企业投资。
上一篇:NLD4000型原子层沉积案例解析 下一篇:茶叶检测仪技术指标
热线电话 在线询价
提示

仪表网采购电话