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Vertex.One/Vertex.C 荷兰Ivium 全功能电化学工作站
面议荷兰Ivium Vertex系列 电化学工作站
面议荷兰Ivium-n-Stat 多通道电化学工作站
面议Vertex.C.EIS 电化学工作站
面议Vertex.One.EIS 电化学工作站
面议GSL1100X-PJF 等离子表面处理仪
面议GSL-1100X-PJF-A 可自动扫描等离子表面处理仪
面议VTC-16-3HD 小型三靶等离子溅射仪
面议VTC-16-D 小型三靶等离子溅射仪
面议GSL-1100X-SPC-16 单靶等离子溅射仪
面议RC-Ni-200 高温高压镍基合金水热反应釜 100/65ml
面议GSL-1100X-PJF 等离子表面处理仪
面议GSL-1100X-PJF-A是等离子枪和可控制的样品台结合在一起的产品,有自动控制的样品台,就可使等离子枪按设定程序对样品表面进行更均匀涂覆和处理,保证处理样品表面的*性和均匀性。此系统是由RF发生器、气体传输管、等离子枪头和X-Y移动的工作台(带有真空吸盘和控制盒)。此系统产生等离子束可在非真空和低温状态下活化和清洗样品表面,可处理的样品有单晶片,光学元件和塑料等,也可在常压下进行等离子增强气相沉积。
技术参数 | |
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主要参数 |
● 工作环境:温度 < 42°C,湿度 ≤ 40℃RH ● 输入电源:208 V- 240VAC, 50Hz, < 1000W ● 等离子体工作压力
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RF发生器 |
● 输出频率:20-23kHz , 25KV ● 等离子枪头:仪器中包括两种等离子枪头:圆形头:10-12mm,矩形头:15-18mm ●
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输入气体气压,工作气体 |
● 40 PSI min.(0.055 Mpa) ● Air, N2, Ar, He 或混合气体(不可通入易燃易爆气体 )
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样品台和控制柜 |
● 配有可在X-Y轴移动的样品台,通过步进电机驱动,采用SBC控制盒控制 ● 可手动调节样品台在Z轴方向上的移动距离 ● 控制盒采用LCD显示,可设置其等离子枪头的扫描程序 ● 大扫描范围:8" x 9" ● 一个直径为4"的真空吸盘安装在X-Y样品台上,可吸住直径为6"的样品 ● 配有一真空泵,可与真空吸盘相连接 ● 整个系统安装在一移动架上(600x600x 800Lmm) ● 可选:可选加热样品台(MAX温度可加热到500℃),也可将设备放置在手套箱中操作 ●
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外形尺寸 |
● 处理样品台尺寸:560mm L x483mm W x 609mm H ● 等离子源尺寸: 406mm L x 508mm W x 230mm H ● 控制盒尺寸:330mm L x 305mm W x 152mm H
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净重 |
55kg
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认证 |
CE认证
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质保期 |
● 一年保修,终身技术支持。 ● 特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 ● 点击查看售后服务承诺书。
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文献 |
● 请点击链接以了解更多关于AP-PECVD应用的信息:常压等离子体增强化学气相沉积(AP-PE-CVD)用于在低温下生长薄膜。 |