无掩膜光刻直写设备----MLA100

无掩膜光刻直写设备----MLA100

参考价: 面议

具体成交价以合同协议为准
2022-04-05 12:02:46
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福芯科技（香港）有限公司

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产品简介

无掩膜光刻直写设备----MLA100

详细介绍

工作方式：无掩膜直写

配置高精度对准摄像机，套刻精度达1um以下

接受衬底尺寸：6”x6”

直写面积：125mm×125mm；

光刻胶曝光灰度：128阶

最小线宽：1um；

制版直写速度在50x50mm下于50分钟完成，在

100x100mm下于200分钟完成。

线宽均匀度<300nm

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