● 采用技术-积木错位蝇眼透镜消衍射技术和线条陡直增强技术，曝
光图形质量好，光刻分辩力高。
● 采用创的CCD图像底面对准，单曝光头正面曝光实现双面对准
功能。
● 采用新颖的高精度，多自由度掩模一样片精密对准工件台结构,掩模与
样片对准过程直观，套刻对准速度快，精度高样片的放置采用推拉式
基准平板，真空吸附式，操作方便。
● 采用1000W长寿命型汞灯光源，曝光能量高，聚光角度小，光源稳定，
持久。
● 支持真空接触曝光，硬接触曝光，压力接触曝光，接近式曝光四种曝光功能。
● 配备循环水冷却系统，照明面温度恒定。
● 具有纳米压印接口功能。
● 曝光面积：8英寸；对准精度：≤±2 μm（双面,片厚0.8mm）/0.8 μm（单面）。
● 掩模尺寸：4英寸、5英寸、7英寸、9英寸。
● 光刻分辨力：1 μm。
● 曝光方式：定时（倒计时方式0.1s-9999.9s任意设定）和定剂量。
● 胶厚：500 μm（SU8胶，用户提供检测条件）。
● 汞灯功率：1000W（直流，进口直流高压汞灯德国欧司朗)。
● 照明不均匀性：5%（Φ200mm 范围）。