真空管式气氛炉厂家这款CVD系统集管式气氛炉，多通道气路系统和真空系统组成，可根据用户需要设计生产（有双温区、三温区、多温区），可预抽真空（有高真空、低真空），通多种气氛（供气系统有质子流量器和浮子流量控制器）。

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真空管式气氛炉厂家性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。CVD真空管式炉CVD真空管式炉CVD真空管式炉，高温真空管式炉厂家

高真空管式炉

 炉管尺寸外径Φ60×1000mm,Φ80×1000mm,Φ100×1000mm

 极限温度1700 ℃

工作温度800 -1600 ℃

温度控制器PID自动控制 晶闸管（可控硅）输出功率， 50段可编程控制器

zui快升降温速率1400℃以下≤10℃/min，1400℃到1600℃≤5℃/min

加热区360mm

恒温区150mm

温度精度±1 ℃

电源单相220V,交流50Hz

多通道流量计控制系统

标准量程100，200 ，500，1000SCCM； （以氮气标定，除以上标准外量程可选）

准确度±1.5%

工作压差范围0.01～0.05 MPa

zui大压力0.02MPa

接头类型Φ6双卡套不锈钢接头

高真空系统泵体积流量N233 L/S

压缩比10:11    

实验真空值6.7*10-3Pa

功率消耗140W

启动时间2min

电源要求：185-265VAC