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温室大棚内温度、湿度、光照强弱以及土壤的温度和含水量等因素,对温室的作物生长起着关键性作用。温室自动化控制系统是以PLC为核心,采用计算机集散网络控制结构对温室
温室自动化控制系统[1]
内的空气温度、土壤温度、相对湿度、CO2浓度、土壤水份、光照强度、水流量以及PH值、EC值等参数进行实时自动调节、检测,创造植物生长的环境,使温室内的环境接近人工设想的理想值,以满足温室作物生长发育的需求。适用于种苗繁育、高产种植、名贵*花卉培养等场地,以增加温室产品产量,提高劳动生产率。是高科技成果为规模化生产的现代农业服务的成功范例。
计算机操作人员根据种植作物所需求的数据及控制参数输入计算机,系统即可实现无人自动操作,计算机采集的各项数据准确的显示、统计,为专家决策提供可靠依据。控制柜设有手动/自动切换开关,必要时可进行手动控制操作。
2.1概述
近年来,温室大棚种植为提高人们的生活水平带来*的便利,得到了迅速的推广和应用。种植环境中的温度、湿度、光照度、CO2浓度等环境因子对作物的生产有很大的影响。传统的人工控制方式难以达到科学合理种植的要求