TX2000全反射X荧光光谱仪

TX2000全反射X荧光光谱仪

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2022-04-02 14:49:48
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产品简介

TXRF(全反射X荧光)分析原理是基于X荧光能谱法,但与X射线能谱形成对比的是,传统能谱采用原级X光束以45角轰击样品,而TXRF采用毫弧度的临界角(接近于零度角)入射。由于采用此种近于切线方向的入射角,原级X光束几乎可以全部被反射,照射在样品表面后,可以很大程度上避免样品载体吸收光束和减小散射的发生,同时减小了载体的背景和噪声,亦可减少样品使用量。

详细介绍

 全反射X荧光光谱仪应用范围

TXRF(全反射X荧光)分析原理是基于X荧光能谱法,但与X射线能谱形成对比的是,传统能谱采用原级X光束以45°角轰击样品,而TXRF采用毫弧度的临界角(接近于零度角)入射。由于采用此种近于切线方向的入射角,原级X光束几乎可以全部被反射,照射在样品表面后,可以很大程度上避免样品载体吸收光束和减小散射的发生,同时减小了载体的背景和噪声,亦可减少样品使用量。

TX2000 将全反射和传统的能量色散集成在同一台仪器上,创新光学编码器的步进电机,角度测量,软件控制Mo/W靶可自由切换,采用高分辨、低背景的帕尔贴控温硅漂移检测器。

 

应用范围

TX2000 可检测从钠Na到钚Pu所有元素含量,可进行痕量或超痕量元素分析(ppt或pg),广泛的应用在环境分析(水、灰尘、沉积物、大气悬浮物),制药分析(生物体液和组织样品中的有害元素),法医学(微小证据分析),化学纯度分析(酸、碱、盐、溶剂、水、超纯试剂),油品分析(原油、轻质油、燃料油),染料分析(墨水、油漆、粉末),半导体材料分析(挥发相分解),核材料工业(放射性元素分析)。

 

 

 

主要特点
■ 单内标校正,有效简化了定量分析,无基体影响;
■ 对于任何基体的样品可单独进行校准和定量分析;
■ 多元素实时分析,可进行痕量和超痕量分析;
■ 不受样品的类型和不同应用需求影响;
■ *的液体或固体样品的微量分析,分析所需样品量小;
■ 优良的检出限水平,元素分析范围从钠覆盖到钚;
■ 的动态线性范围;
■ 无需任何化学前处理,无记忆效应;
■ 非破坏性分析,运行成本低廉。

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