仪器简介

Excite Pharos 飞秒激光剥蚀系统是市面上很具操作性的飞秒系统，采用结构紧凑、全密闭的工业级激光源，无需二次校准和清洁维护。系统提供多种波长可选，如1028nm、257nm、206nm，或配置多波长切换控制，相对应的能量密度为10J/cm²(1028nm)、5J/cm²(257nm)、3J/cm²(206nm)，在稳定运行情况下剥蚀稳定性RSD能达到0.1%。同时系统配备HelEx II双体积双气路涡流样品池，提供快速冲洗效率和持续的剥蚀环境。

注：使用飞秒激光剥蚀系统用于化学分析受美国保护（号5656186及RE37585，由美国密歇根大学持有），隶属于CETAC品牌的Teledyne Photon Machines持有密歇根大学提供的许可，用于提供飞秒激光剥蚀系统。

应用范围

样品种类

半导体材料；透明和半透明类样品；石英；骨头/化石；金属基材料等。

飞秒激光剥蚀系统主要性能参数

■ 激光源为Light Conversion-Pharos 2mJ或Pharos SP 1.5 mJ

■ 激光波长1028nm、257nm、206nm可选

■ 脉冲持续时间<190fs-10ps

■ 脉冲能量可达2mJ

■ 可调脉冲频率1-200kHz（步进1Hz）

■ 波长转换选项广（谐波发生器、OPA、NOPA、连续发生器）

■ 只经历一次光学折射以减少脉冲展宽

■ 每个波长都有独立的光路

■ 独立的视频和激光光学控制单元，能够更好的查看样品剥蚀点

■ 连续可调光斑大小1-65μm

■ 兼容HelEx II双体积双气路涡流样品池

■ 集成的冷却系统减少实验室空间