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maxLIGHT无狭缝平场XUV光谱仪和光束分析仪
面议极紫外、X射线等产品现货供应
面议三维13.5nmEUV/SXR复制镜
面议MiniPIX SPRINTER Timepix2 光子计数X射线探测器
面议X射线相衬、暗场成像套件
面议激光驱动高亮EUV光源
面议hiXAS桌面X射线吸收精细结构谱仪5-12KeV / 台式XAFS
面议极紫外、软X射线内真空CCD相机-LOTTE-s光谱系列
面议X射线微焦源-成像
面议AdvaPIX QUAD Timepix3 光子计数X射线探测器
面议WidePIX 2(1)X5 Medipix3 光子计数X射线探测器
面议proXAS桌面近边X射线吸收精细结构谱仪
面议公司介绍:
德国Microworks 公司成立于 2007年, 是卡尔斯鲁厄理工学院(KIT)微技术研究所 (IMT) 衍生的子公司。通过使用X 射线和激光LIGA技术,Microworks为客户提供高精度微结构的产品。在微纳米技术领域,Microworks代表着高精度。在一个晶片内或者从一个晶片到另一个晶片,其高纵横比和精度可以远低于1µm。其产品涵盖相衬成像光栅、微齿轮、双曲型电极、精密筛、近红外滤波器(选频滤波器)、微弹簧,RF等。
产品介绍:
由于材料中x射线的折射率略小于1,所以x射线透镜有一个双凹透镜原件,每个聚焦元的焦距都非常小。通过线性地对齐许多元件,焦距可以显著地减少到几厘米的范围。
沿光轴放置许多小透镜元件,使入射的x射线光束逐渐聚焦到一个微米级焦点上。使用90度交替排列的原件使用垂直方向和水平方向都可以实现聚焦。透镜元件的由SU-8光刻胶制成的,像聚合物在硅晶圆上。环氧树脂抗蚀剂SU-8过去常使用在平板印刷过程中,它主要由高灵敏度、高灵敏度、x射线透明,且化学性能好和机械稳定性的特点。目前透镜的X射线稳定性已经测试到了≈2 MJ/cm³。
优势:
光轴不发生改变
聚焦质量不会因长时间曝光而改变
易于安装
菲涅尔透镜可选
如果你需要CRL镜,请告诉我们
1. 光子能量(KEV)(单色)
2. 光源尺寸(V [µm]× H [µm], FWHM)
3. SD,光源到镜片中心距离(m)
4. WD, 工作距离,镜片中心到焦点距离(mm)
5. 光源和透镜间光学元件(虚拟光源,聚焦元件)的位置和和这些元件所在位置的光束尺寸。
6. 需要的聚焦光斑尺寸:(V [μm]× H [μm], FWHM)
7. 镜头中心到探测器平面的距离
参数:
适用能量范围宽(> 8 keV)
入口孔径:高达1500µm
聚焦尺寸:最小0.5 μm x 0.5 μm
透镜材料:SU-8 (epoxy resist)
聚焦案列:
硬X射线聚焦(标准CRL) | X射线透镜系统-焦距可变(变焦镜) |
· 点/线聚焦 · 适用于高能应用>100KeV · 可用作准直透镜 | · 用户可通过可移动的聚焦元件来优化工作距离 · 手动或电动驱动 · 100 mm x 120 mm x 100 mm的小巧外形尺寸 |
多聚焦条件透镜系统(多焦点透镜) | 大口径、低吸收的X射线棱镜透镜 |
· 为不同的设置而优化的镜头可以安装在一个镜头快中 · 最多可提供10x10透镜矩阵(在150µm物理孔径下) · 通过照亮整个光圈可在一个平面上的获得多个焦点 | · 聚焦案列: 12.4 keV, WD = 1.6 m Incident beam size: 1.5 mm x 1.5 mm Focus point size: 52 μm x 46 μm Delivery examples (SPring-8) BL13XU, BL43LXU |