公司介绍：

NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发与销售经验。在范围内，通过与众多来自同步辐射科学，阿秒科学，高强度物理学等领域的科学研究者开展紧密合作，积累了大量*的设计与制造技术，其产品在业内享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有着高分辨率，高聚光效率等特点，适合被各种辐射光设施使用。另外，分辨率测试卡被当作业界的标准。不只是学术研究，在X射线的检查装置开发现场也被广泛使用。XUV镜片，XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助，对下一代的光刻研究也有这重要作用。NTT-AT将在XUV,EUV, X线领域给予客户在研发上的帮助。

产品介绍：

世界上只有恩梯梯技术公司生产基于SiC膜的 FZP

优点：

恩梯梯技术公司的由SiC膜和Ta吸收体图案组成的菲涅耳波带板（FZP）具有出色的高耐X射线辐射性、高分辨率和高对比度。
只有恩梯梯技术公司提供基于SiC膜的菲涅耳波带板（FZP）具有出色的高耐X射线辐射性。恩梯梯技术公司的FZP由干法蚀刻的Ta组成。吸收体图案清晰，S/N比高，成像缺陷少, 能理想地应用于X射线显微镜、X射线微光束辐射和X射线成像。
另外，还提供用于软X射线和极紫外（EUV、XUV）领域的Ta图案／SiN膜型FZP和Au板图案／SiN 膜型FZP。并提供台阶式（基诺全息照片）FZP。

特点:

• 能用于X射线显微镜、EUV显微镜、X射线微光束辐射和同步加速器辐射光束监视等各种X射线应用。

• 出色的高耐X射线辐射性

• 最小区域宽度达25纳米

• 可定制FZP

菲涅耳波带板（FZP）的X射线吸收体图案

可按要求定制设计FZP，满足用户的特殊X射线能量、光学设置和聚焦、图像性能。如果本公司的标准产品商品目录中没有所需的产品，请联系我们。

图案示意图
（φ2.5mm）（光学显微镜）

以对角观察的SEM图
（SEM）

菲涅耳波带板（FZP）的结构

二进制型

台阶（基诺全息照片）式

※我们可与用户商讨不同需求。