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maxLIGHT无狭缝平场XUV光谱仪和光束分析仪
面议极紫外、X射线等产品现货供应
面议三维13.5nmEUV/SXR复制镜
面议MiniPIX SPRINTER Timepix2 光子计数X射线探测器
面议X射线相衬、暗场成像套件
面议激光驱动高亮EUV光源
面议hiXAS桌面X射线吸收精细结构谱仪5-12KeV / 台式XAFS
面议极紫外、软X射线内真空CCD相机-LOTTE-s光谱系列
面议X射线微焦源-成像
面议AdvaPIX QUAD Timepix3 光子计数X射线探测器
面议WidePIX 2(1)X5 Medipix3 光子计数X射线探测器
面议proXAS桌面近边X射线吸收精细结构谱仪
面议公司介绍:
德国Incoatec公司在基于薄膜技术的X射线光学器件方面拥有20年以上的经验。Incoatec公司的光学器件被用于的X射线衍射测量、光谱测定和同步加速器射束线上。主打产品包括用于各种领域和针对微焦点光源方案的多层X射线光学器件。用新的光学器件和X射线源来升级X射线分析设备。计算机化的光学器件模拟、各类衬底的生产和薄膜表征使INCOATEC的服务更为完善,为重工业,化学,制药,半导体产业,生命科学和纳米技术提供解决方案,是可靠,高效和用户友好型产品,具备德国制造的精髓。
产品介绍:
Incoatec可为光束制导、塑形以及其他光学实验使用的同步光学组件提供薄膜镀层。Incoatec*的沉积技术可以进行各种材料的单层和多层镀膜,长度高达150cm。与合作伙伴一起,我们可以提供很多完整的光学解决方案。
产品特点:
低斜率误差
低粗糙度
高反射率
高稳定性和高损伤阈值
主要应用:
双晶多层膜单色器
一维或二维曲面镜片
全反射光学组件
2D聚焦,准直或混合型Montel光学组件
光栅涂层
Fig.7 The deviation of the desired shape is less than ± 0.2 %.
沉积和表征:
层沉积
我们对多种材料组合的单层和多层镀膜有丰富的经验,我们既可以沉积单层膜条纹,亦可得到在横向与深度上有不同厚度梯度的最长可达150cm的多层镀膜。该涂层的特点是均匀性好,粘附力强,高密度,低粗糙度和高反射率。
Fig.1 Linear sputter coating unit with 4 different target materials
XRR 表征
多层膜参数,如层厚、密度均匀性、粗糙度、反射率和反差系数比用Cu-Kα(8048eV)在膜的不同位置用XRR进行表征。
Fig.2 The thickness uniformity over 150 cm is better than1%
多层膜的XRR测量
多层镀膜由 X 射线反射法(XRR)检测。通过对一阶Bragg 峰的定量分析,可测定大反射率、积分强度与能量分辨率。
通过 XRR 测量,可对镀层的界面粗糙度与材料密度进行推演以获得尽可能明晰和平滑的界面,同时也是为了在单层之间获得的密度差。布拉格峰角度可以用来计算双层厚度周期,这就是所谓的d值。
Fig.3 Laterally Graded Multilayer Optics: The film thickness variation along the substrate and the ideal and acceptable thickness gradients are shown.
应用介绍:
全反射镜片
全反射镜在同步辐射射束线站上被用于射束的引导和准直。此类镜片用于 X 射线掠入射。因此需要越来越多的长度100cm甚至更长的光学镜片。
Fig.4 Various mirror substrates: 50 cm fused silica, 60 cm Zerodur®, 100 cm silicon
Fig.5 Stripe coating on a 50 cm silicon substrate
多层膜光学组件
这些光学组件包含多层薄膜,达到只有几纳米厚的单层膜都是非晶。多层膜可能有几百层,如果材料有高密度差同时有低吸收率,X 射线相关的两个参数吸收和色散依赖 X 射线波长。所以要达到优异效果,每种波长都需要特定的多层膜。为了满足客户特殊要求,我们可以进行 X 射线光学模拟。就可获得高反射率。
Fig.6 Bendable 400 mm silicon multilayer optics
双晶体多层膜单色器
在成像用射束线站中,多层膜光学组件常被用作双晶体多层单色器(DCMM)。例如,断层扫面中,一个均匀和稳定的光束轮廓是必需的,以便进行背景校正。但由于辐射的强干扰性,在设计光学组件的时候须特别谨慎以避免光束质量退化。我们生产的多层镀膜,可含多至5种条纹,薄膜不均匀度低于0.2%且厚度具有横向梯度。