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maxLIGHT无狭缝平场XUV光谱仪和光束分析仪
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面议proXAS桌面近边X射线吸收精细结构谱仪
面议公司介绍:
NTT-AT有着多年的X射线、极紫外光学配件的研发与销售经验。在范围内,通过与众多来自同步辐射科学,阿秒科学,高强度物理学等领域的科学研究者开展紧密合作,积累了大量*的设计与制造技术,其产品在业内享有很高的评价。NTT-AT提供的菲涅尔波带片有着高分辨率,高聚光效率等特点,适合被各种辐射光设施使用。另外,分辨率测试卡被当作业界的标准。不只是学术研究,在X射线的检查装置开发现场也被广泛使用。XUV镜片,XUV滤波片不仅对阿秒科学有着帮助,对下一代的光刻研究也有这重要作用。NTT-AT将在XUV,EUV, X线领域给予客户在研发上的帮助。
产品介绍:
用于X射线分析的分辨率评估图的事实上的标准
优点
恩梯梯技术公司的X射线分辨率评估图被应用于X射线显微镜、X射线微光束分析和X射线成像等需要超高分辨率的X射线分析。此已成为事实上标准的X射线图被广泛应用于世界上许多地方。
恩梯梯技术公司的X射线图的特点是高耐X射线辐射性、超清晰图案和低边缘粗糙度。本公司基于Ta吸收体图的SiC膜极其精确,能为用户的X射线分析系统评估提供清晰的图像。
您不尝试一下这事实上标准的性能吗?
特点:
有三种X射线图可应用于各种方面:标准型、高分辨率和高对比度型以及超高分辨率型。可为用户的系统定制图案布局和基板尺寸。
有三种X射线图可应用于各种方面:标准型、高分辨率和高对比度型以及超高分辨率型。可为用户的系统定制图案布局和基板尺寸。
项目 | 标准型 XRESO-100 | 高分辨率型 带较厚Ta 吸收体 XRESO-50HC | 新!! 超高分辨率 XRESO-20 | |
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基板 | 材料、尺寸 | Si 10平方毫米 | ||
厚度 | 1毫米 | 1毫米 | 0.625毫米 | |
膜 | 材料、 厚度 | Ru 20纳米 SiN 2微米 | Ru 20纳米 SiC 200纳米 SiN 50纳米 | Ru 20纳米 SiC 200纳米 SiN 50纳米 |
区域 | 1平方毫米 | 1平方毫米 | 1平方毫米 | |
对齐 | 基板中间 | 基板中间 | 基板中间 | |
图案 | 吸收体、 厚度 | Ta 1微米 | Ta 500纳米 | Ta 100纳米 |
最小图案 尺寸 | 100纳米 | 50纳米 | 20纳米 放射形图案 | |
图案区域 | 250微米×350微米 | 300平方微米 | 300平方微米 |
XRESO-20是具有20纳米最小图案宽度的超高分辨率评估图。2014年开始销售的此高规格型号最近被应用于超高分辨率X射线成像系统。
图的SEM图像 | 图案布局 |
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100纳米孔 | ①放射形图案 ③④孔图案 ⑤⑥⑦⑧L&S图案 |
50纳米孔 | |
20纳米图案 | 20纳米放射形图案 |
XRESO-20是具有20纳米最小图案宽度的超高分辨率评估图。2014年开始销售的此高规格型号最近被应用于超高分辨率X射线成像系统。
图案布局 |
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XRESO-50HC提供成本合理的50纳米高分辨率。其已被应用于X射线微光束辐射、X射线显微镜和X射线相干成像等各种用途。
图的SEM图像 | 图案布局 |
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放射形图案 相应于图案布局的点(1) | |
50纳米 L&S 相应于图案布局的点(2) | |