生产的系列热工设备：

L4611Ⅱ-Z/RZQ双管氧化炉

  【产品简介】

    氧化炉主要是完成半导体元器件的氧化，使元器件表面在一定的温度和气氛的反应下形成一种所需要的氧化膜。同时可作元器件的烧结、退火、钎焊等工艺。

【产品特点】

具有应用广、安全可靠、控制精度高等特点。

【主要技术指标】

● 温度：    1250℃

●使用温度：    300℃--1200℃

●恒温区长度：   ≥600mm

●恒温区精度:    ±2℃

●单点控温精度： ±1℃/24h

●升温功率：   18KW

●保温功率：   8KW

●氮气流量：   大 0—20L/min（可调）   小 0—1L/ min

●氢气流量：  0—0.2L/min