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MultiPrep™系统适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精que角度抛光，定点抛光或几种方式结合抛光；它解决了操作者之间的不一致性，提供可重复的结果，而不管他们的技能如何； MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。
双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精que的样品倾斜度调整；精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。
数字指示器可以量化材料的去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡，能够zui大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的处理能力。
常见的应用包括并联电路层级，横截面，楔角抛光等
前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程）， 1微米分辨率 | 精que主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转 |
双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。 | 后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率 |
6倍速样品自动摆动 | 齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，如较大或封装的样品 |
凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具 | 8倍速样品自动旋转 |
样品调整范围：0-600克（100克增量） | 美国ALLIED设计制造 |
研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量） | 数字计时器和转速表 |
7“LCD触摸屏，带键盘输入控制所有功能 | 顺时针/逆时针研磨盘旋转 |
可选的AD-5 ™自动操作流体分配器 | 调节阀电子控制冷却液 |
0.5 HP（375 W），高扭矩马达 | 稳定的RIM，铝和不锈钢结构 |
腐蚀/耐冲击盖 | 一年保修 |
符合欧盟CE标准 | 由美国Allied设计制造 |
| 项目＃ | 描述 |
| 15-2200 | MultiPrep™精密抛光系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相 |
| 包括：飞溅环和压板盖，刻度盘指示器校准套件，夹具/附件存储盒 | |
| Dims: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm) | |
| Weight: 95 lb. (43 kg) | |
| 15-2200-TEM | 带O型环驱动的MultiPrep™系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微镜而设计样品制备精致材料研磨抛光 |
| 包括：飞溅环和压板盖，刻度指示器校准套件，夹具/附件存储盒 | |
| Dims: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm) | |
| Weight: 125 lb. (57 kg) |
