KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混气管式PECVD系统，由KJ-T1200单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成。

  混气管式PECVD系统是为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，环境温度在100-300℃，但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化，从而大大提高了反应物的活性，这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜，因此这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）。



设备可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜，并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层、装饰等领域。

可选配件：

 1．实现烤箱/电炉的升温、保温、降温工艺过程全自动。
 2．工艺人员可以将几段程序编制成1条控温曲线，保存于触摸屏内，带密码保护功能，可一次性编制多条曲线。
 3．具备断电记忆功能，查询已完成的工艺阶段。
 4．现场操作人员需要调用某条温控曲线时，直接输入曲线序列号即可调用该条曲线，简单方便，杜绝错误发生。
 5．具备多组历史数据记录功能。
 6．具备同时显示多段温度及时间功能。

  1.制冷量达1800W，可选用环保冷媒；

  2.温控精度可达±0.3℃；

  3.智能温控器具有两种温控模式，适用于不同的使用场合；

  有多种设定和故障显示功能；

  4.具有多种报警保护功能：压缩机延时保护；压缩机过流

  保护；水流报警；温度超高/低报警；

  5.多国电源规格，CE、RoHS认证；

  6.长寿耐用，操作简便；

  7.可选配加热器和净化水质配置。