KJ-PECVD-1200-50*300-F3-1200℃PECVD系统-郑州科佳电炉有限公司手机版

详细介绍

产品介绍：
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。

产品用途：
温度范围宽；溅射区域长；整管可调；精致小巧，性价比高，可实现快速升降温，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

产品参数：

产品名称		1200℃PECVD系统
产品型号		KJ-PECVD-1200-50*300-F3
加热系统	显示	LED
	温度	1200℃
	长期工作温度	≤1100℃
	升温速率	0~15℃/min (max. 20℃/min)
	温区	300mm
	加热元件	钼棒
	热电偶	K type
	温度均匀性	±1℃
	炉管尺寸	60 x 1200mm
	炉管尺寸	材质：氧化铝
	温度控制	通过可控硅功率控制进行PID自动控制
	加热过程	30步可编程
	电压	220V，50 Hz，单相 3KW
	工作压力	0.02MPa
真空系统	旋片泵包括 KF25 适配器、真空泵组波纹管和带轮子的移动柜。	冷态极限真空10Pa。
	真空计	Inficon 数显真空计
	真空法兰	带阀门和针头的不锈钢真空法兰
质量流量计	流量范围	CO2（流量范围：0-200 sccm CH4（流量范围：0-200 sccm） N2 流量范围（流量范围：0-200 sccm）
	准确性	±1.5 % F.S.
	重复精度	±1.5 % F.S.
	响应时间	≦10sec
	工作压差范围	0.1~0.5MPa
	耐压性	3MPa
	温度系数	零：≤±0.2% F.S./℃；跨度：≤±0.2% F.S./℃
	工作环境温度	5~45℃
	输入信号	0 V ~ +5.00 V
	输出信号	0 V ~ +5.00 V
等离子射频发生器	输出功率：0 -300W可调，±1%稳定性射频频率：13.56 MHz ±0.005% 稳定性反射功率： 120W 电源稳定性指标：±0.1% 匹配：自动噪音：<50 分贝。整体效率：≧70%

1、我公司对所供设备提供质保一年保修服务（易损件除外），在保修期内因设备质量原因造成的设备损坏或故障，均予以免费维修。保修期满后，仍提供终身的、优质的维修服务。
2、在设备使用过程中如遇故障的，我公司将尽快做出处理方案，确保设备正常运行。
3、我公司设提供免费的设备操作培训和简单故障排除维修培训。
4、我公司技术人员可提供(产品安装调试、整机维护、技术讲解及操作指导等)。
5、本公司可提供运输服务，包装方式均按照标准安全包装进行。随机技术资料齐全（用户手册、保修手册、有关资料及配件、随机工具等）。
6、本公司所有产品均有欧盟CE质量认证。

产品简介

详细介绍