涡轮分子泵 HiPace® 350-800
HiPace 350:坚固的高性能涡轮泵,用于 N2 时的抽气速率可达 300 l/s结构紧凑,性能强大出色的抽气速率,适于轻气体 HiPace 450:坚固的高性能涡轮泵,用于 N2 时的抽气速率可达 380 l/s结构紧凑,性能强大出色的抽气速率,适于轻气体 HiPace 700:空间需求小和可靠性高高气通量和高抽吸能力防护类型 IP54 适合于工业用途准 S2 和...... 参考价面议干式涡旋泵 HiScroll
上海伯东普发 Pfeiffer 推出全新系列真空泵- 涡旋干泵 HiScroll, 与友厂同级别涡旋泵对比, HiScroll 涡旋干泵体积更小, 重量更轻, 能耗更低,对水蒸气环境抽气真空度更优, 特别适合科研单位使用!涡旋干泵 HiScroll 配置 Pfeiffer 直流电机, 推荐搭配伯东 Pfeiffer 分子泵 HiPace 系列共同使用, 实现洁净的超高真空环境! 参考价面议Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™
上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston, 通过使用分子传感技术, 提供半导体制程中 ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断, 为半导体过程控制提供解决方案, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 在现有生产工艺工具上加装 Aston, 可在短时间内实现晶圆更高产量! 参考价面议Europlasma 等离子表面处理机 CD 1200 PLC
上海伯东比利时 Europlasma 等离子表面处理机 CD 1200 PLC, 使用 Nanofics@ 技术, 实现材料表面水接触角 WCA 10, 满足产品表面等离子活化改性, 高分子材料亲水, 细胞培养皿活化, TC 处理等工艺. Europlasma 等离子表面处理机操作简单, 等离子腔容积 490 L, 标配 8个托盘, 整机. 参考价面议干式涡旋泵 HiScroll 12
上海伯东德国 Pfeiffer 干式涡旋泵 HiScroll 12, 抽速 12.1 m3/h, 极限真空 9X10-3 hPa, 防护等级 IP20, 提供防爆型号. 干式涡旋泵 HiScroll 12 通用电压, 低噪音, 振动小, 设计紧凑, 既满足工业应用也适用于实验室使用. 参考价面议HVA 真空闸阀, 真空插板阀 21200 系列
HVA 真空闸阀, 真空插板阀 21200 系列为百万周期真空闸阀, 专为高真空应用而设计, 特别适合 1x10-9 mbar 高真空且烘烤温度不超过 150C的应用.HVA 真空闸阀, 真空插板阀 21200 系列内部没有机械锁, 非常适合对于要求无振动运行的半导体和敏感工艺. 所有活动关节的轴都经过硬化处理, 减少了颗粒物的产生并提供了更平稳的驱动.清洁和高密封性保证 HVA ...... 参考价面议HVA 矩形真空阀门 (插板阀) 88200 系列
HVA 矩形真空阀门 (插板阀) 88200 系列是采用了直连驱动技术, 可靠使用寿命超过1百万次.HVA 矩形真空阀门 (插板阀) 88200 系列经过专门设计, 可满足行业对机械接口和真空容器的要求, HVA 矩形真空阀门 (插板阀) 设计为隔离浇口两侧的真空压力, HVA 矩形真空阀门 (插板阀) 窄型设计(包括执行器和控制器)允许紧密安装在, 负载锁定.HVA 矩形真空...... 参考价面议CTI On-Board® IS 320FX 低温泵
On-Board IS 320FX 低温泵, 专为应对当今离子注入工艺的挑战而开发, 可提高氢气抽取速度和容量, 同时还能保持所有您对 On-Board IS 320FE 低温泵所期望的质量、性能和可靠性优势. 参考价面议HVA 不锈钢真空闸阀 11000 系列
上海伯东是美国 HVA 真空阀门在中国地区总代理商。美国 HVA 不锈钢真空闸阀 11000 系列的阀体和闸板材料: 304 不锈钢; 波纹管焊接轴封: AM-350HVA 不锈钢真空闸阀 11000 系列接口有: KF, ISO-F, ISO-K, ASA, JIS法兰.HVA 不锈钢真空闸阀 11000 系列压力范围约为1 x 10 -10 mbar, 烘烤...... 参考价面议伯东 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM 340
伯东普发 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM 340 是目前业界*的检漏到最小漏率. 检测快时间短.对氦气的最小检测漏率: 真空模式:5E-13 Pa m3/s 吸枪模式:5E-10 Pa m3/s氦质谱检漏仪 ASM 340 整机保证欧洲 99% . 采用移动式操作面板, 方便操作; 其前级泵可选油泵或干泵, 或无前级泵.氦质谱检漏...... 参考价面议美国 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 系列属于宽束型离子源, 散射角度45.霍尔离子源气体流量可选 2-25sccm/ 2-50sccm/ 2-50sccm/ 2-75sccm/ 5-100sccm 等不同级别.霍尔离子源电流可选 5A/ 10A/ 12A/ 15A/ 20A 等.霍尔离子源高浓度提高镀膜沉积速率, 低动能减少离子轰击损伤表面...... 参考价面议美国 KRI 霍尔离子源 eH 400
上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸: 直径= 3.7 高= 3放电电压 / 电流: 50-300eV / 5a操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, ...... 参考价面议