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Quattro ESEM 扫描电子显微镜

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2024-05-08
型号
Quattro ESEM
上海拓普思科技有限公司

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产品简介
扫描电子显微镜
详细信息

FEI Quattro ESEM 扫描电子显微镜

 

Quattro E型扫描电镜现在为现代材料科学研究提供了更大的灵活性,满足了对结构特性,元素分布以及材料在自然状态下的动态变化的更大可见性的需求。用于检测,自动化和样品加热的新配件使研究人员能够从更多样品和更多条件中获得更多数据。

Thermo Scientific™Quattro环境扫描电子显微镜(ESEM)是一款多功能,高性能仪器,配有场发射枪(FEG),具有特色的分辨率和射束电流稳定性。

三种真空模式(高真空,低真空和ESEM)可灵活地适应任何可用SEM的广泛样品,包括除气或不与真空兼容的样品。Quattro供多种探测器,包括定向反向散射信息,STEM和发光,可调谐和真实色彩对比。所有Quattro ESEM系统都可以配备分析功能,例如能量色散x射线光谱(EDS),波长色散x射线光谱(WDS)和与EDS共面的电子背散射衍射(EBSD)。

Quattro的架构由辅助功能(用户南)提供支持,该功能不仅可以指示,还可以直接与显微镜进行交互。Quattro支持撤消/重做功能,扫描预设,列预设,简易的基于摄像头的导航,SmartSCAN™和漂移补偿帧集成(DCFI),以提高生产力,数据质量和易用性。

 

多功能分辨率SEM,具有的环保能力

Thermo Scientific™Quattro ESEM将成像和分析方位性能与的环境模式(ESEM™)相结合,可以在自然状态下研究样品。它是各种学术,工业和政府实验室的理想选择,这些实验室希望在支持原位实验的平台上为不同经验水平和学科的多个用户提供所需的多功能性和易用性。Quattro的场发射枪(FEG)可确保特色的分辨率,同时其三种真空模式(高真空,低真空和ESEM)可灵活地适匀魏蜸EM样品的广泛样品,包括放气或不真空的样品-兼容。

 

高性能的多功能性

Quattro ESEM是分析平台,因为它的腔室可以配备一系列配件。分析能力包括能量色散X射线光谱(EDS),具有180度双EDS附着的端口,与EDS共面的电子背散射衍射(EBSD)和波长色散X射线光谱(WDS)。

Quattro ESEM支持可选的高真空加热阶段,AutoScript,基于Python的脚本工具和新的RGB发光(CL)探测器。RGB CL检测器产生彩色图像,突出显示使用传统电子或X射线成像技术不可见的样品特性。高真空加热阶段可在高温下进行清洁的样品观察。使用AutoScript,用户可以对成像和舞台移动进行编程,以实现无人值守的数据采集。

 

 

 

 

动态原位实验

Quattro的多功能性使其非常适合材料科学的广泛主题<它同样擅长于执行传统的高分辨率SEM成像/分析和动态原位实验。它允许研究人员研究自然状态下广泛的样品,以获得有关结构和组成的准确信息。

 

 

 

 

 

 

 

的环境模式

Quattro的环境SEM(ESEM)功能使科学家能够在各种条件下研究材料,例如湿/湿,热或反应环境,因为他们为无数学科开发新材料和产品,包括建筑,汽车,包装,涂料和能源。Quattro研究化学反应进程的能力,如氧化,腐蚀,蚀刻,晶体生长和催化,可对科学和环境产生重大影响。

 

 

 

 

 

 

典型应用包括

1、纳米表征:

– 金属和合金,裂缝,焊缝,抛光部分,磁性和超导材料

-陶瓷,复合材料,塑料

-薄膜,涂层

-地质剖面,矿物

-软材料:聚合物,药品,过滤器,凝胶,组织,植物材料

-颗粒,多孔材料,纤维

2、原位表征:

-结晶/相变

-氧化,催化

-物质增长

-水合/脱水/润湿/接触角分析

-拉伸(加热或冷却)

 

技术参数

1、电子光学:

1)发射源:高分辨肖特基场发射电子枪。

2)加速电压:200V – 30kV。

3)放大倍数:6× – 2,500,000×。

4)电镜内设计有压差真空系统,保护低真空/环境真空下电子枪,延长寿命。

5)大的电子束束流:1pA -200nA连续可调,保证能谱工作。

2、真空系统:

1)1个250 l/s分子涡轮泵+1个机械泵+2个离子泵

2)集成的离子泵备用电池(用于意外断电保护)

3)高真空模式:<6×10-4 Pa (测试导电样品或喷金处理样品)

4)低真空模式:10 – 200 Pa (直接测试不导电样品)

5)环境真空模式:10 – 4000 Pa (测试含水分样品)

6)高真空模式下的换样时间:≤3.5min

7) 环境真空模式下的换样时间:≤4.5min

3、电子束分辨率:

A:高真空模式下成像

1)高真空分辨率30 kV下1.0 nm (SE二次电子)

2)高真空分辨率30 kV下2.5 nm (BSE背散射电子)

3)高真空分辨率1 kV下3.0 nm (SE二次电子)

B:低真空模式下成像

4)低真空分辨率30 kV下1.3 nm (SE二次电子)

5)低真空分辨率30 kV下2.5 nm (BSE背散射电子)

6)低真空分辨率3 kV下3.0 nm (BSE背散射电子)

C:环境模式下成像

7)环境真空分辨率30 kV下1.3 nm (SE二次电子)

4、样品室:

1)样品室内宽:340mm

2)分析工作距离:10 mm

3)样品室红外CCD相机:1个

4)可升级12个探测器或附件接口

5、样品台:

1)样品台类型:五轴全自动U中.心对中样品台,同时保留五轴手动功能

2)行程:X:110 mm,Y:110 mm ,Z:65 mm,

3)旋转R=n×360°,倾斜T=-15°/+90°

4)多功能样品台,存放标准样品台 (Ø12 mm)平面18个,斜面3个,同时提供2个断面夹具

5)样品高度≥85mm

 

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