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提供电子束曝光/紫外曝光/深硅刻蚀/等离子刻蚀及测量服务
具体成交价以合同协议为准
2022-06-02上海
- 型号
磁控溅射仪，电子束蒸发镀膜仪，离子减薄仪，微波等离子化学气相沉积系统（MPCVD），化学束外延系统，电磁场场分布测试仪，等离子处理，刻蚀机，光学软件与材料（金刚石），HFCVD，BSDF/BRED测量仪，电磁场仿真软件
产品简介
我公司能够提供下列服务：电子束曝光：制备光刻胶图像作为掩膜，最小可以制备线宽为7nm的图像
详细信息
我公司能够提供下列服务：
电子束曝光：制备光刻胶图像作为掩膜，最小可以制备线宽为7nm的图像；
紫外曝光：可以制备不同厚度的光刻胶图像作为掩膜，最小线条为1um；
牛津深硅刻蚀，深宽比至少可以达到10:1，可以把250um的硅片刻蚀穿透，且侧壁陡直光滑、不长草；
德国 ICP等离子刻蚀，可以刻蚀各种金属、氧化物、半导体等材料；
测试SEM/EDS、台阶仪、椭偏仪器、安捷伦半导体分析仪、AFM、XPS以及划片机（切割硅片、玻璃、蓝宝石等）等
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