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PIPS II 精密离子减薄仪
具体成交价以合同协议为准
2024-05-21
- 型号
- PIPS II
产品简介
PIPS II 精密离子减薄仪包含了 WhisperLok®，能对减薄样品进行准确定位。10英寸触摸屏简单易用，提高对减薄区域的精度控制和减薄过程的可重复性。
详细信息
PIPS II 精密离子减薄仪
设备简介：
一代PIPS™离子减薄系统树立了透射电镜（TEM）制样的行业标准已超20年，而全新一代PIPS II 精密离子减薄仪基于一代PIPS 有了根本性的升级。
PIPS II 精密离子减薄仪包含了 WhisperLok®，能对减薄样品进行准确定位。10英寸触摸屏简单易用，提高对减薄区域的精度控制和减薄过程的可重复性。
配备的数码变焦显微镜系统可以实时监测减薄过程，同时可将获取的彩图存储于DM软件中，用于与样品在TEM中成像对比。
性能优点：
- WhisperLok系统及X-Y可调样品台：可对样品感兴趣区域进行对中重复减薄
- 低能量聚焦离子枪：改进的低能量范围的性能可用于FIB样品的表面清扫
- 能量从 0.1 keV到 8 keV可调 : 低能范围的性能提升可以减少非晶层
- 液氮冷台：去除热效应产生的样品损伤
- 10英寸彩色触摸屏控制：简单易用的控制图形用户界面
- 数码变焦显微镜系统：实时监测减薄过程
- DM软件存储彩图：可以使用同TEM和EELS数据相同的格式储存光学显微图像
应用：
- 半导体
- 金属（氧化物，合金）
- 陶瓷
技术规格：
| 离子源 | |
| 离子枪 | 两个配有低能聚焦能力电极的潘宁离子枪 |
| 抛光角度（°） | +10 到-10,每支离子枪可独立调节 |
| 离子束能量 (keV) | 0.1 ‒ 8.0 |
| 离子束流密度峰值 (mA/cm2) | 10 |
| 射束校准 | 使用荧光屏的精密光束校准 |
| 离子束直径 | 可用气体流量计或放电电压来调节 |
| 样品台 | |
| 样品尺寸（mm） | 3 或者 2.3 |
| 样品夹持 | |
| 标准 | DuoPost® |
| 可选 | 石墨台 |
| 转速 (rpm) | 1 ‒ 6 |
| 离子束调制 | 角度范围可调的单向调制或双向调制 |
| X, Y 方向平移 (mm) | ±0.5 |
| 样品观察 | |
| Option 1 | 双目显微镜 |
| Option 2 | 数码变焦显微镜及 DM 软件存储（选配） |
| 真空系统 | |
| 干泵系统 | 80 L/s 的涡轮分子泵，具备两级隔膜前级泵 |
| 压力 (torr) | |
| 基本压力 | 5 x 10-6 |
| 工作压力 | 8 x 10-5 |
| 真空规 | 冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵 |
| 样品气锁 | WhisperLok,技术，样品交换时间小于1 分钟 |
| 用户界面 | |
| 10 英寸彩色触摸屏 | 操作简单，且能够控制所有参数和配方式操作 |
| 尺寸及使用要求 | |
| 外形尺寸 (长 x 宽 x 高, mm) | 547 × 495×615 |
| 运输重量 (kg) | 45 |
| 功耗 (W) | |
| 运行时 | 200 |
| 待机时 | 100 |
| 电源要求 | 通用 100/240 VAC, 50/60 Hz （用户电压和频率） |
| 氩气 (psi) | 25 |
订货编号：LR-200635
